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打造更美好的人工智慧晶片
让设计拥有更好的电源效率

【作者: Linley Gwennap】2020年11月13日 星期五

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由于7奈米及更先进制程愈趋复杂昂贵,正采用不同方法来提高效能,亦即降低工作电压并使用新IP区块来强化12奈米节点,而这些改变对于AI加速器特别有效。格罗方德的客户已在AI加速技术上取得成功,这也为新一代12LP+技术奠定基础。



摩尔定律可能不会消失,但它正在迅速走向尽头。经过50年的持续不断进步,实现下一个节点变得越来越艰难。在过去十年中,微影(lithography)技术的成本不断上涨,特别是近来导入极紫外光(EUV)后。从16奈米节点开始,转进到3D电晶体(FinFET),也使得成本进一步提高。结果,如图一所示,电晶体成本过往骤降的幅度已趋缓,在之前几个节点中只有缓慢进展。新款晶片设计的初始下线(Tape-Out)成本也从28奈米的100万美元,飙升至7奈米的1,000万美元左右。
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