製程尺寸的縮短會帶來諸多影響，其中之一即傳統的OPC將無法在合理的回應時間內實現高圖像真實性。我們對此進行研究並提出了一個解決方案，將其命名為Matrix OPC。

首先，我們來探究應用於高階製程時，傳統的光學近似效應修正（OPC）存在的問題。 在OPC中，圖像每一個邊長會被切割成適當的區段，每個區段的邊長位置誤差（EPE）按照精心挑選或計算的回饋，進行反覆調整。傳統的OPC演算法假設光罩上單個多邊形區段和其晶片上相關的EPE間是為一對一的反應關係，這意味著移動光罩上的一個區段僅影響相關的EPE。反而言之，在OPC反覆運算中，光罩上區段的漸進移位完全可通過其關聯EPE估算出來，從28nm製程開始，這種手法過度簡化問題，而考量單一個區段EPE已經無法有效處理區段對區段之間的交互影響。
...
...