比利時微電子研究中心（imec）近日宣布所採購的ASML最新EXE:5200高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影系統已順利到廠，將進一步確立其在埃米時代扮演產業發展基地的關鍵地位，並提供其全球夥伴生態系統提前取得新一代晶片微縮技術的空前機會。

圖一 : imec近日宣布所採購的ASML最新EXE:5200高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影系統已順利到廠，

這套High-NA EUV系統將直接整合量測和圖形化工具及材料的全面套件，賦予imec及其生態系統夥伴發展量能，以解鎖2奈米以下邏輯和高密度記憶體技術所需的性能，為先進AI與高效能運算技術注入快速成長的動能。

imec執行長Luc Van den hov表示：「過去兩年來，imec與ASML在雙方共同於荷蘭Eindhoven建立的High-NA EUV實驗室，攜手生態系統來領先研發High-NA EUV技術，已經為高數值孔徑（0.55NA）EUV微影技術寫下重要篇章。」
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