联电今宣布与大日本印刷株式会社(DNP)签订一项为期数年的协议，联电将获得DNP保障提供先进的光罩服务。此外，双方将共同为0.10微米光罩制定适当之规格。

联电表示，根据该协议，DNP将集中提供0.15/0.13微米制程世代的高阶光罩予联电，并强调采用先进且高质量的光学微距校正 (Optical Proximity Correction, OPC)相位移光罩(Phased Shift Mask, PSM)。至于0.10微米技术的合作开发，将由2家公司工程师组成技术研究团队并制定此项高阶制程的光罩规格，让联电客户将来广泛采用。