针对亿光电子股份有限公司（下称「亿光」）在2018年10月17日新闻稿指出，中国国家知识产权局专利复审委员会决定维持亿光之中国专利「具覆晶结构的发光二极管装置」（CN 101400197 B）的有效性，日亚化学工业株式会社（下称「日亚」）表示将对该决定提起行政诉讼，以捍卫权利。

上述亿光之中国专利CN 101400197 B的台湾对应案，即I353069号「具覆晶结构之发光二极体装置」发明专利，已在2017年1月24日经台湾经济部智慧财产局认定不具进步性，审定举发成立、撤销专利权在案。嗣後，经济部亦於2017年10月2日驳回亿光之诉愿，维持专利无效之审定。尽管亿光曾於2017年12月5日向台湾智慧财产法院提起行政诉讼，但随後於今年（2018年）8月28日自行撤回起诉，故此台湾对应专利业已撤销确定。准此，日亚相信亿光的中国专利CN 101400197 B亦应无效。

日亚不遗馀力地寻求保护其专利以及其他智慧财产权，并在适当且必要时，於任何国家对侵权者采取法律行动。