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90奈米绘图芯片效益明年显现
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2005年09月26日 星期一

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根据工商时报消息,半导体制程推进到90奈米,但绘图处理器认为,比起0.13微米,90奈米在综合良率、芯片效能等整体成本,明年第一季才能展现显著效益。但包括ATI与Nvidia的新款绘图处理器芯片,都已选定90奈米。以ATI为例,9至11月间、旗下三款新绘图处理器对台积电90奈米的下单量已突破三万片约当八吋晶圆。

ATI 10月将陆续推出R520、RV530与RV515等三款绘图处理器,但由于90奈米制程不利高速高温的芯片特性,定位最高阶的R520已延宕近半年、RV530近日也才改版,仅RV515符合预期进度。Nvidia最高阶芯片仍以0.11微米量产,相对应RV530与RV515的中阶产品启用90奈米,在良率与量产时程上反而更为顺利。

尽管绘图处理器应用90奈米的成本效益尚未完全发挥,但两大厂对以台积电为主、联电为辅的90奈米制程下单策略,仍持续增加下单量。据了解,ATI从9月开始到12月,光是对台积电90奈米下单量就会超过四万片约当八吋晶圆。为突破90奈米难以兼顾高速运算与避免漏电的技术瓶颈,两大绘图处理器业者积极与晶圆代工厂开发更好的High-K(高介电系数)制程。估计明年第一季90奈米对绘图处理器业者的成本效益便可显著超越0.13微米。

绘图处理器业者对芯片设计与制程开发间的关连性日益重视。Nvidia约莫在五年前发展出「Design for Manufacturing」概念,在芯片设计前端作业中便导入制程特性等相关知识,缩短芯片由试产到量产的时间并提高良率。

關鍵字: 90奈米  绘图芯片  ATI  Nvidia  影像处理器 
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