帳號:
密碼:
最新動態
產業快訊
CTIMES/SmartAuto / 新聞 /
三星與海力士共同研發次世代記憶體技術
 

【CTIMES/SmartAuto 籃貫銘 報導】   2008年06月26日 星期四

瀏覽人次:【3030】

外電消息報導,三星電子與海力士半導體於週三(6/25)共同宣佈,將合作發展下一代的半導體晶片,並推動450mm的18吋晶圓廠標準。

據報導,三星與海力士共同表示,雙方將合作進行旋轉力矩轉移-磁性隨機記憶體(STT-MRAM)晶片的研發工作,並將致力於使其成為下一代450毫米晶圓的行業標準。雙方表示,研發工作將於8月份開始著手實施,而新一代的晶片市場將在2012年左右,會逐漸趨於成熟。

STT-MRAM為MRAM技術中的一種,其對透過穿隧磁阻(TMR)元件的電子旋轉方向進行極化,以改變自由磁層的磁化方向,因而實現數據寫入。由於不使用外部磁場,旋轉力矩型MRAM比傳統的MRAM消耗更少的能量,而且更易微縮,而其他的結構與傳統MRAM相同。

關鍵字: MRAM  SST-MRAM  三星(Samsung海力士(Hynix
相關新聞
三星發表ALoP相機技術 讓夜拍更清晰、手機更輕薄
Samsung與NTT Docomo合作AI研究 用於下一代行動通訊技術
紐約大學理工學院和法國CEA-Leti合作開發12吋晶圓磁性記憶體元件
IDC:2024第一季全球智慧手機出貨成長7.8% 三星重返第一
Ansys電源完整性簽核方案通過三星 2奈米矽製程技術認證
comments powered by Disqus
相關討論
  相關文章
» SiC MOSFET:意法半導體克服產業挑戰的顛覆性技術
» 揮別製程物理極限 半導體異質整合的創新與機遇
» AI運算方興未艾 3D DRAM技術成性能瓶頸
» STM32MP25系列MPU加速邊緣AI應用發展 開啟嵌入式智慧新時代
» STM32 MCU產品線再添新成員 STM32H7R/S與STM32U0各擅勝場


刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3  v3.20.2048.3.149.254.25
地址:台北數位產業園區(digiBlock Taipei) 103台北市大同區承德路三段287-2號A棟204室
電話 (02)2585-5526 #0 轉接至總機 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw