半導體材料業者羅門哈斯電子材料的研磨技術部門（Rohm and Haas Electronic Materials CMP Technologies）宣佈，一家主要的12吋晶圓廠採用該公司所生產的銅和阻擋層CMP 研磨劑之後，大幅提高了高階製程的總產量。

羅門哈斯指出，該12吋晶圓廠導入該公司EPL2361 銅研磨劑和 CUS1351 阻擋層研磨劑，並配合羅門哈斯的研磨墊及在CMP技術工程師現場協助下所開發的技術之後，除提高了120和90nm技術節點的總產量，也使得凹陷、磨蝕以及與 CMP 相關的缺陷減少了50％以上，壽命延長了300％ 以上。

CUS1351是羅門哈斯生產的阻擋層 CMP 研磨劑。EPL2361 是由長興化學工業生產的銅CMP研磨劑；長興化工與羅門哈斯為戰略結盟夥伴。以上兩種研磨劑都能透過通過羅門哈斯電子購買。羅門哈斯電子材料CMP 技術部門總部設於亞利桑那州的鳳凰城，並在全球開展業務，包括在特拉華州紐渥克市和日本的三重縣和奈良縣的製造業務。