台湾半导体产业代理商帆宣系统科技宣布与美国Epion结盟，将代理Epion nFusion Doping System植入设备以及Ultra-Trimmer Corrective微蚀刻设备。Epion是GCIB气体集合离子束(gas cluster ion beam)设备开发者，主要用于微电子及相关产业制造。

帆宣系统科技总经理林育业指出，Epion使晶圆制造厂能够完成其他技术难以达成的杂质掺杂制程，提供原子级尺度制程技术。Epion的nFusion制程设备利用infusion技术，高速量产超薄浅界面。Infusion是室温技术，制程只在数层原子表面进行，底层材料完全不受影响。Epion的Ultra Trimmer与nFusion Doping设备是可量产的GCIB气体集合离子束设备。