半导体制程设备业者FSI将于3月23日在新竹烟波大饭店举办最新表面处理技术研讨会，FSI表示，该研讨会将涉及各种表面处理技术的应用，除邀请来自FSI、芯片制造商和化学清洗供货商的专家发表专题演讲，会中并将发表多项表面清洗技术应用方案及论文。

FSI表示，该场研讨会将以“针对65奈米及更高制程的尖端清洗技术”为主题，针对65奈米制程表面清洗技术，邀请来自美国ATMI、日本富士通（Fujitsu）以及台湾国家奈米组件实验室（NDL）等各地专家，共同发表新技术，期能藉由剖析发展现况以及趋势前瞻，为半导体产业建立实质互动的新领域。

FSI董事长兼执行总裁Don Mitchell表示，该公司身为在半导体业界具备30年经验的设备供货商，将提供全世界的客户在不同层次上交流信息的机会，希望藉由在全球各个市场举办研讨会，提供技术交流与互动的方式，增进对当地客户的了解并更充分满足客户的需求。

FSI为全球IC制程的表面清洗设备技术与支持服务供货商，拥有一系列清洗设备产品，可针对单晶元与批次生产平台，为客户提供包括浸泡式、旋转喷雾式，以及气相与过冷动力等清洗方式。