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Voltaix获得Intel Capital的1250万美元投资
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2008年07月31日 星期四

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提高半导体芯片和太阳能电池性能的材料供货商Voltaix宣布,已经从Intel旗下的全球投资部门Intel Capital获得1250万美元的投资。这项投资将加速该公司制造能力的扩张。Voltaix制造整合电路晶圆厂的前段半导体制程所用的电子化学品和气体。该公司亦是在供应用来生产先进光伏电池的化学气相沉积先驱体(CVD precursors)的市场领导者。

「我们已经提供了关键的材料予半导体和薄膜太阳能应用超过二十五年以上。」Voltaix总裁和非晶质材料研究早期贡献者Dr. John P. de Neufville说明。「我们相信,薄膜太阳能电池的生产,尤其是能够支持建材一体型太阳电池模板(BIPV)的产品 ,已作好显著扩大的准备。这一投资将有助于使我们能够建造一个最先进的制造设施,以满足薄膜能源技术不断增长的需求。」

「在半导体组件制造业能够有新的能力,材料的创新是关键。」Intel资深副总裁兼Intel Capital总裁Arvind Sodhani说。「我们投资Voltaix,是Intel Capital的制造策略的一部分,此策略是促进整合电路制造和以其互补的轻净科技(cleantech)等相关领域的创新,薄膜光伏就是一例。」

据德意志银行的估计,薄膜光伏的生产(使用非晶硅,CdTe和CIGS技术)在2007年和2010年之间将成长超过四倍。Yole Development研究机构估计,薄膜光伏市场到2015年将达到67亿美元。

關鍵字: CVD  BIPV  Voltaix  Intel  Intel Capital  John P. de Neufville  Arvind Sodhani  製程材料類 
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