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宇瞻科技工业用记忆体拓展抗硫化应用 抢占边缘储存商机
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2018年05月15日 星期二

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宇瞻科技(Apacer)开发全球首款抗硫化记忆体模组,陆续取得多国专利,以创新专业技术站稳全球,锁定工业应用情境日趋复杂、智慧应用装置多元化发展,与边缘运算终端装置崛起趋势。

专利布局有成,宇瞻科技开发之抗硫化记忆体模组,已陆续於美国、台湾、中国取得专利。
专利布局有成,宇瞻科技开发之抗硫化记忆体模组,已陆续於美国、台湾、中国取得专利。

宇瞻科技拓展抗硫化产品布局,宣布扩大抗硫化技术应用至DDR4、DDR3工业用记忆体;推升抗硫化记忆体模组从特殊应用跃居市场主流,成为从云端到终端,从资料中心、伺服器到边缘装置的标准规格,引发记忆体模组市场的新一波成长动能。

近年来抗硫化记忆体模组一直是市场上关注的焦点。IDC预测,随着行动和即时资料持续增长,至2025年全球资料领域中将有超过四分之一的资料为即时资料;即时资料分析的需求,於边缘运算装置的成长扮演了重要的角色。宇瞻科技观察,因应边缘运算装置多位於条件严苛且复杂的应用环境,客户对具备实质抗硫化效果的工业用记忆体模组需求也随之增长,带动抗硫化记忆体模组采用率。另一方面,IPC产业领导厂商亦持续关注记忆体硫化问题,深知记忆体硫化对工业电脑、网通与伺服器产品可靠度及使用寿命影响甚钜,要求导入抗硫化记忆体模组,期能藉此增进产品附加价值并创造差异化。

宇瞻科技从加速硫化实验中发现,一般记忆体模组於高温、高浓度含硫的环境中,不到200小时就会开始出现硫化腐蚀情形,造成故障问题。宇瞻科技专利抗硫化记忆体采用特殊的合金材质来达到最高的抗硫化效果,其元件均通过抗硫化ASTM B809-95测试规范,於105度的高温、高浓度含硫环境下仍可稳定正常运作超过1000小时,提升抗硫化耐用度高达5倍以上,以实质确保产品可靠度与耐用度,满足系统长时间稳定运作之需求,进而有效提升系统整体使用寿命。

宇瞻科技自发表专利抗硫化记忆体模组以来,成功带动工控市场对於硫化议题的重视;而今从面临传统硫化环境威胁的工业电脑、伺服器应用,到常处於开放式环境的边缘运算装置,乃至追求极高可靠度的全工业级应用,工控市场全面采用抗硫化产品的时机俨然成熟。

宇瞻科技开发之抗硫化记忆体模组,为抗硫化技术领航先驱,已陆续於美国、台湾、中国取得专利;而今进一步扩大抗硫化技术应用,率先拓展抗硫化产品布局至工业用记忆体DDR4、DDR3规格。宇瞻科技重视且尊重智慧财产权,多年来积极投入创新与研发,至今已获得专利232项专利。有监於国内外科技厂专利侵权案层出不穷,宇瞻也提醒,宇瞻专利抗硫化记忆体并未授权任何厂商生产,客户采用相关产品时应提高警觉,以避免专利侵权问题。

關鍵字: 内存模块  DDR4  DDR3  宇瞻 
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