比利时微电子研究中心（imec）近日宣布所采购的ASML最新EXE:5200高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）微影系统已顺利到厂，将进一步确立其在埃米时代扮演产业发展基地的关键地位，并提供其全球夥伴生态系统提前取得新一代晶片微缩技术的空前机会。

imec近日宣布所采购的ASML最新EXE:5200高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）微影系统已顺利到厂，

这套High-NA EUV系统将直接整合量测和图形化工具及材料的全面套件，赋予imec及其生态系统夥伴发展量能，以解锁2奈米以下逻辑和高密度记忆体技术所需的性能，为先进AI与高效能运算技术注入快速成长的动能。

imec执行长Luc Van den hov表示：「过去两年来，imec与ASML在双方共同於荷兰Eindhoven建立的High-NA EUV实验室，携手生态系统来领先研发High-NA EUV技术，已经为高数值孔径（0.55NA）EUV微影技术写下重要篇章。」

目前这套EXE:5200 High-NA EUV微影系统已被安装在imec设於比利时鲁汶的12寸无尘室，我们希??藉此推动这些High-NA EUV图形化技术与产业接轨，并开发新一代High-NA EUV图形化技术的应用案例。

随着半导体业迈入埃米世代，High-NA EUV技术将是最重要的基础战力，透过imec提供这套系统具备最顶尖的解析度、增强型叠对性能、高产量，以及提升制程稳定度和产量的新型晶圆仓储设备，将在imec合作夥伴加速2奈米以下的晶片发展时，提供能率先开发的决定性优势。」

这项里程碑也是imec与ASML策略夥伴关系的关键部分，该协议为期5年，并获得欧盟（晶片联合承诺与欧洲共同利益重要项目）、法兰德斯政府与荷兰政府的支持。imec执行长Luc Van den hovb认为：「作为欧盟资助的奈米晶片试验制程的组成部分，这套工具预计将巩固欧洲在未来数十年先进半导体研发的领导地位。」

在imec的无尘室配备ASML EXE:5200 High-NA EUV微影系统，稳固了imec在先进图形化技术领域作为最完整开发环境的地位。Imec也与各大晶片制造商、设备、材料与阻剂供应商、光罩企业及量测专家建立深度生态系统合作，这将能让我们加速学习循环并提升制程稳定度，为新一代逻辑和记忆体元件技术，开发与展示尖端图形化技术，驱动将能塑造未来先进运算与AI发展的技术创新。

imec预期EXE:5200 High-NA EUV微影系统将在2026年Q4完成所有检验。同时，ASML与imec於荷兰Eindhoven共同建立的High-NA EUV微影实验室也将维持运作，为imec及其生态系统夥伴确保High-NA EUV研发工作持续进行。