帳號:
密碼:
最新動態
產業快訊
CTIMES/SmartAuto / 新聞 /
高容量記憶體 可望因3D IC而不再是奢侈品
 

【CTIMES/SmartAuto 朱致宜 報導】   2010年06月24日 星期四

瀏覽人次:【5798】

旺宏電子今日(6/24)發表最新的3D NAND Flash研究成果,其總經理盧志遠表示,這顆3D IC與一般討論的Sip、TSV技術不同,但是能夠大幅降低Bit Cost。未來若能步入量產,可以解決高容量記憶體成本高昂的問題,最高目標希望能與硬碟並駕齊驅,甚至超越硬碟。

旺宏電子總經理盧志遠對於最新的3D NAND Flash技術感到相當興奮。 BigPic:350x234
旺宏電子總經理盧志遠對於最新的3D NAND Flash技術感到相當興奮。 BigPic:350x234

根據ITRS評估,3D IC是讓NAND Flash可以持續維持微縮,並且讓記憶體內電子數目保持在100顆以上的方案。Toshiba在2007年提出的BiCS技術,由於可讓減低光罩製程的支出成本,讓業界為之一驚紛紛跟進,今日旺宏電子所發表的新技術,即是由此衍伸進化而來。

盧志遠認為,Floating Gate Flash技術雖然勉強延續到今日,但其實在30奈米階段,就已經面臨瓶頸。尤其在行動裝置需求甚殷,3D IC需求漸長的狀況下,FG在進入3D IC領域時遇到了很大的問題。由於FG不像SONOS一般本身就是絕緣體,可兼任電荷的儲存場所,故必須處處絕緣,以防止電荷到處流動。所以,盧志遠表示,FG在3D IC領域無法克服的困難,至多發展至10奈米,便會邁向衰敗,此時此刻正是3D VG NAND切入的機會點。

旺宏電子今日宣佈之技術在解碼方面進行創新,採取三平面相交一點,以決定記憶體的位置。此外,並在Toshiba的基礎上,以BE-SONO為元件,在電性表現上更優異。目前於相同領域進行研發的除了旺宏電子,還有Samsung。盧志遠說,旺宏的技術特點在於採用垂直閘極架構,讓電流以水平方式流動,以避免一般3D IC鄰近垂直記憶體間彼此干擾的問題。也因此,採此技術製造的記憶體可以在厚度變薄的情況下增加層數,提高記憶體的密度。

關鍵字: 3D IC  NAND Flash  旺宏電子  盧志遠  記憶元件 
相關新聞
3D IC封裝開啟智慧醫療新局 工研院攜凌通開發「無線感測口服膠囊」
半導體生產技術加速演進 高純度氣體供應為成功基礎
【東西講座】3D IC設計的入門課!
歐姆龍X射線自動檢查平台 有效解決晶片檢查量產化和自動化挑戰
Ansys攜手台積電與微軟 共同提升3D IC可靠度模擬
相關討論
  相關文章
» SiC MOSFET:意法半導體克服產業挑戰的顛覆性技術
» STM32MP25系列MPU加速邊緣AI應用發展 開啟嵌入式智慧新時代
» STM32 MCU產品線再添新成員 STM32H7R/S與STM32U0各擅勝場
» STM32WBA系列推動物聯網發展 多協定無線連接成效率關鍵
» 開啟邊緣智能新時代 ST引領AI開發潮流


刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3  v3.20.2048.3.131.37.82
地址:台北數位產業園區(digiBlock Taipei) 103台北市大同區承德路三段287-2號A棟204室
電話 (02)2585-5526 #0 轉接至總機 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw