旺宏電子今日(6/24)發表最新的3D NAND Flash研究成果,其總經理盧志遠表示,這顆3D IC與一般討論的Sip、TSV技術不同,但是能夠大幅降低Bit Cost。未來若能步入量產,可以解決高容量記憶體成本高昂的問題,最高目標希望能與硬碟並駕齊驅,甚至超越硬碟。
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旺宏電子總經理盧志遠對於最新的3D NAND Flash技術感到相當興奮。 BigPic:350x234 |
根據ITRS評估,3D IC是讓NAND Flash可以持續維持微縮,並且讓記憶體內電子數目保持在100顆以上的方案。Toshiba在2007年提出的BiCS技術,由於可讓減低光罩製程的支出成本,讓業界為之一驚紛紛跟進,今日旺宏電子所發表的新技術,即是由此衍伸進化而來。
盧志遠認為,Floating Gate Flash技術雖然勉強延續到今日,但其實在30奈米階段,就已經面臨瓶頸。尤其在行動裝置需求甚殷,3D IC需求漸長的狀況下,FG在進入3D IC領域時遇到了很大的問題。由於FG不像SONOS一般本身就是絕緣體,可兼任電荷的儲存場所,故必須處處絕緣,以防止電荷到處流動。所以,盧志遠表示,FG在3D IC領域無法克服的困難,至多發展至10奈米,便會邁向衰敗,此時此刻正是3D VG NAND切入的機會點。
旺宏電子今日宣佈之技術在解碼方面進行創新,採取三平面相交一點,以決定記憶體的位置。此外,並在Toshiba的基礎上,以BE-SONO為元件,在電性表現上更優異。目前於相同領域進行研發的除了旺宏電子,還有Samsung。盧志遠說,旺宏的技術特點在於採用垂直閘極架構,讓電流以水平方式流動,以避免一般3D IC鄰近垂直記憶體間彼此干擾的問題。也因此,採此技術製造的記憶體可以在厚度變薄的情況下增加層數,提高記憶體的密度。