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Mentor EDA進一步支援三星Foundry 5/4奈米製程技術
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2020年08月22日 星期六

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Mentor, a Siemens business旗下的Calibre nmPlatform和Analog FastSPICE(AFS)自訂和類比/混合訊號(AMS)電路驗證平台已通過三星Foundry的最新製程技術認證。客戶現在可以在三星的5/4奈米FinFET製程上使用這些產品,為其先進的IC設計tapeouts進行驗證和sign-off。

三星5奈米FinFET製程具備優異的功率、效能和面積(PPA)特性,其自身的增強功能,結合更精細的5奈米幾何尺寸,能夠提供比前幾代製程節點更加突出的效能表現。

三星電子設計實現團隊副總裁Jongwook Kye表示:「三星和Mentor已有長期的合作實績,在此基礎上我們的共同客戶能夠充分運用業界最佳的Calibre解決方案。現在,Calibre和AFS均已通過最新的三星Foundry製程認證。結合雙方的專業知識,可協助設計人員開發和快速驗證其創新IC,以滿足各類高成長的市場和應用需求。」

除Calibre nmDRC之外,通過三星Foundry新製程認證的Mentor工具還包括:

‧ Calibre xACT ─ 可解決與先進奈米設計相關的技術挑戰,包括多重曝光、FinFET、局部互連、高複雜度和嚴苛的約束條件等。其獨特的混合引擎可為FinFET這類細微的3D結構提供至關重要的場解算器準確度,並具備快速處理能力,可迅速完成全晶片設計。

‧ Calibre?YieldEnhancer ─ 具有SmartFill和ECO Fill功能,客戶可控制設計平面度並縮短反覆設計的周轉時間。Calibre YieldEnhancer可透過自動化PowerVia流程減少IR壓降,協助客戶提高設計可靠度。同時,三星與Mentor合作將此流程客製化,為其領先的製程技術提供最高數量的通孔加插。

‧ Calibre PERC ─ 能夠對實體佈局和網表進行獨特的整合分析,自動執行複雜的可靠度驗證檢查。支援5/4奈米製程的三星Foundry Calibre PERC設計套件可提供額外的驗證檢查,協助客戶克服靜電放電和閂鎖(latch-up)可靠度的相關挑戰。

‧ Calibre nmLVS ─ 可作為三星Foundry萃取流程的前端。Calibre nmLVS可因應不斷增加的佈局複雜度要求,以及設計團隊對先進運算的更高需求,使他們在驗證複雜電路的同時,仍能在預期的執行時間?達成先進製程節點的設計目標。

‧ Calibre RealTime數位和自訂介面平台 ─ 利用同樣通過三星Foundry認證予批量Calibre的設計套件,在數位和自訂設計流程中即時地實現sign-off質量的DRC檢查。在先進和成熟節點設計的DRC收斂期間,這些介面可提供顯著的生產力優勢,使客戶能快速優化其手動的DRC修正,以節省更多時間來實現PPA目標。

‧ Mentor的AFS平台 ─ 幫助晶片級系統(SoC)設計人員充滿信心地完成電路驗證。三星Foundry的器件模型和設計套件均支援AFS平台,雙方的共同客戶能?以此在驗證類比、RF、混合訊號、記憶體和自訂數位電路時,實現比傳統SPICE模擬器速度更快的奈米級SPICE準確度。

Mentor Calibre設計解決方案產品管理副總裁Michael Buehler-Garcia表示:「三星Foundry不斷探索新製程,面向市場持續提供高度創新的技術,藉以實現 更複雜的IC設計。我們很高興能與三星Foundry繼續?手,並作為其創新解決方案的關鍵設計要素,協助雙方共同客戶設計和製造出最先進的IC產品。」

關鍵字: EDA  mentor 
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