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Voltaix獲得Intel Capital的1250萬美元投資
 

【CTIMES/SmartAuto 王岫晨 報導】   2008年07月31日 星期四

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提高半導體晶片和太陽能電池性能的材料供應商Voltaix宣布,已經從Intel旗下的全球投資部門Intel Capital獲得1250萬美元的投資。這項投資將加速該公司製造能力的擴張。Voltaix製造整合電路晶圓廠的前段半導體製程所用的電子化學品和氣體。該公司亦是在供應用來生產先進光伏電池的化學氣相沉積先驅體(CVD precursors)的市場領導者。

「我們已經提供了關鍵的材料予半導體和薄膜太陽能應用超過二十五年以上。」Voltaix總裁和非晶質材料研究早期貢獻者Dr. John P. de Neufville說明。「我們相信,薄膜太陽能電池的生產,尤其是能夠支援建材一體型太陽電池模板(BIPV)的產品 ,已作好顯著擴大的準備。這一投資將有助於使我們能夠建造一個最先進的製造設施,以滿足薄膜能源技術不斷增長的需求。」

「在半導體元件製造業能夠有新的能力,材料的創新是關鍵。」Intel資深副總裁兼Intel Capital總裁Arvind Sodhani說。「我們投資Voltaix,是Intel Capital的製造策略的一部分,此策略是促進整合電路製造和以其互補的輕淨科技(cleantech)等相關領域的創新,薄膜光伏就是一例。」

據德意志銀行的估計,薄膜光伏的生產(使用非晶矽,CdTe和CIGS技術)在2007年和2010年之間將成長超過四倍。Yole Development研究機構估計,薄膜光伏市場到2015年將達到67億美元。

關鍵字: CVD  BIPV  Voltaix  Intel(英代爾, 英特爾Intel Capital  John P. de Neufville  Arvind Sodhani  製程材料類 
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