台灣半導體產業代理商帆宣系統科技宣佈與美國Epion結盟，將代理Epion nFusion Doping System植入設備以及Ultra-Trimmer Corrective微蝕刻設備。Epion是GCIB氣體集合離子束(gas cluster ion beam)設備開發者，主要用於微電子及相關產業製造。

帆宣系統科技總經理林育業指出，Epion使晶圓製造廠能夠完成其他技術難以達成的雜質摻雜製程，提供原子級尺度製程技術。Epion的nFusion製程設備利用infusion技術，高速量產超薄淺界面。Infusion是室溫技術，製程只在數層原子表面進行，底層材料完全不受影響。Epion的Ultra Trimmer與nFusion Doping設備是可量產的GCIB氣體集合離子束設備。