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Mentor擴展可支援台積電5奈米FinFET與7奈米FinFET Plus 製程技術的解決方案
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2018年11月20日 星期二

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Mentor今(20)天宣佈其Mentor CalibreR nmPlatform 與Analog FastSPICE (AFS) 平台已通過台積電7奈米 FinFET Plus 與最新版本的5奈米FinFET製程認證。此外,Mentor 持續擴展Xpedition Package Designer 和Xpedition Substrate Integrator 產品的功能,以支援台積電的先進封裝技術。

台積電設計建構行銷事業處資深處長Suk Lee表示:「台積電正與Mentor密切合作,藉由提供更多的功能在其EDA解決方案以支援我們新的5奈米與7奈米FinFET Plus製程,Mentor持續在台積電生態系統中帶來更高的價值。Mentor是我們多年來的重要策略夥伴,憑藉著西門子將持續為Mentor的電子設計自動化(EDA)技術進行策略性投資,將可協助雙方的共同客戶更成功地把新一代令人驚豔的IC技術創新帶到市場。」

適用於台積電5奈米與7奈米 FinFET Plus製程的Mentor Calibre nmPlatform

Mentor增強了Calibre nmDRC? 與 Calibre nmLVS?工具,以支援台積電7奈米FinFET Plus製程與最新版本的5奈米FinFET製程。Mentor持續提供台積電客戶所需的功能性與效能,以助其達到製造需求。Calibre nmDRC和Calibre nmLVS工具已可提供雲端服務,並且可有效運用於數千個CPU數量的伺服器方案供客戶使用。

Mentor的Caliber YieldEnhancer工具已通過台積電5奈米與7奈米 FinFET Plus製程認證。 Mentor和台積電已開發獨特的填充程式庫,可透過緊密控制填充形狀的位置來達到製造要求。結合Calibre YieldEnhancer工具的功能與台積電的Calibre填充設計套件(Fill Design Kit),可把填充率(insertion rate)提升至最高。

Calibre PERC? 可靠性平台不僅已通過台積電5奈米與7奈米 FinFET Plus製程認證,並新近增強了為台積電開發的PERC電路限制檢查,以協助台積電的客戶提升其設計的可靠性。

Mentor強化設計工具,以支援台積電的InFO_MS堆疊技術

Mentor持續增強其工具組合,以支援台積電的 InFO_MS(整合式扇出基板上記憶體)先進堆疊封裝技術。

除了能建立並管理複雜的元件間連接性,以及作為Xpedition Package Designer佈局的關鍵自動化功能之外,Mentor的Xpedition Substrate Integrator還擴展其功能,可以自動生成原始網表,以供Calibre 3DSTACK連接性檢查之用。

用於LVS、Calibre nmDRC的Calibre 3DSTACK?、用於介面耦合電容萃取的Calibre xACT、以及用於點對點(P2P)檢查的Calibre PERC工具也是TSMC InFO_MS參考流程的一部分。 這些增強功能為TSMC InFO_MS設計流程提供了全面性的建置和驗證解決方案。

適用於台積電5奈米FinFET 與7奈米FinFET Plus製程的Mentor AFS平台

FS平台,包括 AFS Mega 電路模擬工具,已通過台積電7奈米 FinFET Plus製程與最新版本的5奈米 FinFET製程認證。全球領先半導體業者的類比、混合訊號與射頻(RF)設計團隊都將能獲益於採用AFS平台,來驗證其採用最新台積電技術設計的晶片。

Mentor的IC部門執行副總裁Joe Sawicki表示:「Mentor很榮幸能與台積電合作繼續提供關鍵技術,讓我們的客戶可以更快地把IC創新推向市場。今年,台積電和Mentor共同提供解決方案,為我們的共同客戶提供越來越多的設計途徑,以便能夠快速為行動、高效能運算、汽車、人工智慧和物聯網/可穿戴市場開發晶片方案。」

關鍵字: 5奈米 FinFET  7奈米FinFET Plus  Mentor  台積電(TSMC
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