Advanced Energy(AE)致力於開發各種高精確度電源轉換、測量和控制系統等解決方案。該公司今(3)日宣佈推出三個可支援先進技術節點半導體晶圓製程設備的全新解決方案。

Advanced Energy半導體產品副總裁暨總經理Peter Gillespie表示﹕「隨著第四次工業革命揭開帷幕，半導體製造技術不斷發展，並且迅速掀起翻天覆地的轉變。在開發相關的電源解決方案時，Advanced Energy一直走在發展的前沿，我們的電源系統可確保半導體產品外形更為小巧，也讓生產商可以更快速、更嚴格控制製程，而且又可降低擁有成本，因此廠商客戶都很倚重我們這方面的技術生產各種晶片，新晶片的量產又帶動整個資訊業的發展。」

Peter Gillespie進一步指出：「製程設備電源系統以前幾乎完全被人忽視，現在則越來越多人肯定其重要性，認為製程設備電源技術在整個晶圓生產過程中發揮極具關鍵的作用。我們很樂意分享我們這方面的產品，例如可支援整個製程的電源產品。我們也會在展覽期內率先推出可支援整個平台的電源產品，其中包括Advanced Energy雅特生科技產品部的一系列電源產品。」

Advanced Energy推出的全新系統解決方案

．eVoS LE

Advanced Energy推出一項全新的非正弦波電漿製程設備電源供應技術。這個名為eVoS的平台可以控制投射在物料表面極少範圍內的離子能量。這是先進蝕刻和沉積製程所越來越倚重的技術，可用於生產精密的5奈米(nm)及以下的晶圓。

一直以來，正弦波射頻偏壓電漿製程採用一種較為複雜的多頻率電源系統，而eVoS平台則是一個產生離子能量分佈較窄的客製化方案，提供另一個較簡單的選擇。Advanced Energy這個解決方案可確保離子能量分佈範圍更加直接受到控制，也有助於提高偏壓電源的能效，而且可降低電源損耗，較傳統的解決方案更優勝。晶圓的封裝大小設計日趨複雜，要解決生產上的問題就必須充分利用這項新技術的優點。eVoS LE(LE即低能量)則可提供容易準確控制供電量的電源系統，最適用於極重要的電漿製程方面的應用，例如，原子層蝕刻(ALE)、蝕刻、清潔、沉積和原子層沉積(ALD)。

．Navigator II FCi

Advanced Energy表示，其Navigator II一直是領先業界的阻抗匹配網路平台，大受市場歡迎。而他們現在乘勢推出一款全新的Navigator II FCi，這是一款更快的固態匹配網路平台，無論在價值、速度以及調頻範圍都進一步提升的匹配器產品。

Navigator II FCi採用高速的PIN型二極體技術，與Advanced Energy早前率先在市場推出的Navigator II FastCap固態匹配器各有優點，兩者可產生相輔相成的作用，讓功率輸出和阻抗範圍可以擴大，反應時間也可縮短至次毫秒(ms)水平。Navigator II FCi沒有轉動的零部件，因此其可靠性和可複製性優於傳統的真空電容匹配器。

此外，Navigator II FCi可支援與原子層蝕刻有關的先進應用，並加強其功能，讓這類應用可支援各式各樣日漸增多的應用，以滿足新產品市場的規格要求。例如，稱為Paramount HFi的全新射頻電源供應系統除了整合匹配器和產生器之外，也同樣採用Navigator II FCi這種高速PIN型二極體技術。

．Paramount HFi

這款高度整合的射頻電源系統採用小巧的封裝，但效能高，成本低，可滿足先進沉積工具的嚴格要求。2000年，Advanced Energy開發了可量產且全面整合產生器和匹配器的電源供應系統Apex，該射頻電源供應系統至今仍是沉積射頻應用方面的理想電源，其優點是可在四個不同調頻範圍之間切換。全新的Paramount HFi沿著這個路向再跨進一大步，提供32個不同調頻範圍，另外還配備一個改良的全數位控制系統以及一個全新的射頻計量學(VI)感應器。

由於Paramount HFi配備這些新功能，加上另外還有擴大了的作業窗口，因此除了可以支援先進的製程控制之外，還有高度可重複性的優點，甚至配備一個共激機模式，以確保採用叢集配置的不同系統可以同步作業，以及支援先進的通訊協定(EtherCAT)。

Advanced Energy表示，Paramount HFi具有體積小巧、以毫秒(ms)計的反應時間以及高度穩定可靠等優點，因此是目前快速沉積製程的理想解決方案。對於處理先進的NAND儲存型快閃記憶體和其他高度重複的堆疊元件來說，速度和可靠性越來越受重視，甚至被視為決定生產成敗的關鍵因素。Paramount HFi便適用於這類應用。