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讨论新闻主题﹕KLA-Tencor推出5D图案成型控制解决方案的关键系统

新闻 提要
KLA-Tencor 公司今天宣布，推出WaferSight PWG 已图案晶圆几何形状测量系统、LMS IPRO6 光罩图案位置测量系统和 K-T Analyzer 9.0 先进数据分析系统。这三种新产品支持 KLA-Tencor 独特的 5D 图案成型控制解决方案，此方案着重于解决图案成型制程控制上的五个主要问题 — 组件结构的三维几何尺寸、时间效率和设备效率。5D 图案成型控制解决方案主要透?对微影模块制程和非微影模块制程的量化、优化、和监控，来获取最佳的图案成型结果。 透?将以上设备测量结果与智能回馈及前馈制程控制回路相结合，此项解决方案能够协助芯片制造商利用现有制程装置以更快及更有成效的方式来提升多重图案成型技术、隔板周期分割及其他先进图案成型技术

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