以光學微影技術為主,含光學基礎,微影系統介紹,光阻化學原理與製程運用,以及深次微米微影製程中廣泛運用之解析度增強技術,如偏軸照明,相轉移光罩,光學鄰近修正技術等。 �s�i | ![](/adv/2024/08/01/2207023840.jpg) |
課程大綱: 1. Optics Fundamentals for Microlithography 2. Microlithography Exposure systems 3. Chemistry of Resist and Process Application 4. Resolution Enhancement Technology 5. Next Generation Lithography 上課時間:每週二及每週四 18:30~21:30 |