單元六:真空鍍膜設備之真空零組件及原子層沉積技術

2012年08月30日 星期四 【科技日報報導】
活動名稱: 單元六:真空鍍膜設備之真空零組件及原子層沉積技術
開始時間: 八月三十日(四) 00:00 結束時間: 八月三十日(四) 00:00
主辦單位: 工業技術研究院
活動地點: 工研院產業學院 台北學習中心
聯絡人: 陳小姐 聯絡電話: (02)-2370-1111#313
報名網頁: http://college.itri.org.tw/
相關網址: http://college.itri.org.tw/

課程介紹

本課程將介紹真空鍍膜設備之各種真空零組件,如真空邦浦、真空法蘭、管接頭、真空閥門、氣體閥、真空計等,以及其相關應用,讓學員了解真空鍍膜設備之各種真空零組件及其應用,增進職場真空技能知識。

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同時介紹ALD設備沉積原理與其在OLED封裝製程上之應用,透過ALD設備技術的了解,可以使學員瞭解OLED阻水阻氣關鍵製程之應用。

講師介紹

陳工程師---工業技術研究院機械所

王副組長---工業技術研究院機械與系統研究所 副組長

其他內容

06/21一 AMOLED關鍵設備與製程技術開發

07/05二 高效率(橘或黃光)OLED元件結構設計、量測與實作(清華大學實驗室實作)

07/19三 超低色溫OLED元件產業應用、量測與實作(清華大學實驗室實作)

08/02四 OLED材料及蒸鍍技術應用發展與趨勢

08/16 五 OLED元件與量測分析實作(工研院實驗室實作)

08/30六 真空鍍膜設備之真空零組件及原子層沉積技術於光電元件之應用


關鍵字: 工業技術研究院