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[SEMICON] KLA-Tencor推出全新检测系统 拓展IC封装产品系列 (2018.09.06)
KLA-Tencor公司推出两款全新缺陷检测产品,旨在解决各类IC所面临的封装挑战。 Kronos 1080系统为先进封?提供适合量产的、高灵敏度的晶圆检测,为制程控制和材料处置提供关键的信息
KLA-Tencor缺陷检测系统可解决制程和设备监控关键挑战 (2018.07.24)
KLA-Tencor公司宣布推出两款全新缺陷检测产品,在矽晶圆和晶片制造领域中针对尖端逻辑和记忆体节点,为设备和制程监控解决两个关键挑战。 VoyagerTM 1015系统提供了检测图案化晶圆的新功能,包括在光阻显影後并且晶圆尚可重做的情况下,立即在微影单元中进行检查
Micro LED forum 2018:巨量转移技术仍待突破 (2018.07.12)
TrendForce LED研究(LEDinside)今日(12日)於台大医院国际会议中心201室举办年度重量级研讨会「Micro LEDforum 2018:Micro LED 关键技术方案与应用市场」。本次研讨会邀请来自eLux、Uniqarta、QMAT、KIMM、Nitride Semiconductors、Topcon、Macroblock等国内外领导厂商及专家
爱德万测试将共同赞助SEMICON West举行的首届SEMI High Tech U (2018.07.10)
爱德万测试将与SEMI携手合作,成为首届SEMI High Tech U活动的四大企业赞助商之一,该活动将在7月10日至12日於旧金山Moscone展览中心举办的年度SEMICON West展览会期间同步进行
我们能否为异质整合而感谢亚里士多德? (2018.05.08)
技术创新使得越来越特殊和复杂的封装变得可行,因此需要针对如微小的内部裸片裂纹这样的缺陷类型提供灵敏度,同时也要保持产品灵活性, 以支持封装技术随着不断增加的应用而朝着多个方向的发展
在线量测针对表徵和控制晶圆接合极度薄化 (2017.10.17)
对於3D-SOC整合技术方案,当Si减薄至5μm以下时会出现多种挑战,因而需要不同的测量技术来表徵整个晶圆的最终Si厚度。本文介绍在极度晶圆薄化制程的探索和开发过程中所使用的在线量测方法
KLA-Tencor:7奈米以下制程需有效降低显影成型误差 (2017.09.14)
7纳米制程节点将是半导体厂推进摩尔定律(Moore’s Law)的下一重要关卡。半导体进入7纳米节点後,制程将面临更严峻的挑战, 不仅要克服晶圆刻蚀方面、热、静电放电和电磁干扰等物理效应,同时要让信号通过狭小的线也需要更大的电力,这让晶片设计,检查和测试更难
KLA-Tencor推出全新FlashScanTM产品线 (2017.08.18)
KLA-Tencor公司宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩检测产品线,自从1978年公司推出第一台检测系统以来,KLA-Tencor一直是图案光罩检测的主要供应商,新的FlashScan产品线宣告公司进入专用空白光罩的检验市场
KLA-Tencor为先进积体电路元件技术推出全新量测系统 (2017.03.20)
KLA-Tencor公司针对次十奈米(sub-10nm)积体电路(IC)元件的开发和量产推出四款创新的量?系统:Archer 600叠对量测系统,WaferSight PWG2图案化晶圆几何形状测量系统,SpectraShape10K光学线宽(CD)量测系统和SensArray HighTemp 4mm即时温度测量系统
Lab4MEMS专案获欧洲创新大奖 (2016.12.09)
欧洲电子元件与系统领先计画(Electronic Components and Systems for European Leadership,ECSEL)企业联合会在义大利罗马欧洲奈米电子论坛期间宣布,Lab4MEMS 专案荣获该组织2016年度创新奖
先进制程迈入10nm以下时代 科磊推三款光罩检测系统 (2016.08.19)
随着半导体先进制程的推演,10奈米(nm)与7nm制程终露曙光;然而,先进制程须得搭配上更先进的光罩检测技术;晶圆检测设备制造商KLA-Tencor(科磊)看准了此一检测需求,针对10 奈米及7奈米制程,推出了三款先进的光罩检测系统,分别是光罩决策中心(RDC)、可供光罩厂使用的Teron 640,以及供晶圆厂操作的Teron SL655
KLA-Tencor 为积体电路技术推出晶圆全面检查与检查系列产品 (2016.07.13)
在SEMICON West 上,KLA-Tencor 公司为前沿积体电路装置制造推出了六套先进的缺陷检测与检查系统:3900 系列(以前称为第5 代)和2930 系列宽频电浆光学检测仪、Puma 9980雷射扫描检测仪、CIRCL 5全表面检测套件、Surfscan SP5无图案晶圆检测仪和eDR7280电子显微镜和分类工具
大批量制造的装置叠对方法 (2016.07.06)
本文介绍 DI/FI偏差表征结果和变化来源,并介绍对DI调整馈送 APC 系统的影响。本文回顾该方法在大批量制造(HVM)晶圆厂的实施详情,并在文章最后将讨论该研究的未来方向
「SEMI High Tech U学习营」首次在台举行 (2016.05.10)
人生课堂没有标准答案,唯有不断尝试体验,才能走出属于自己的道路。有感于学子与家长的彷徨,半导体检测设备大厂美商科磊(KLA-Tencor)首次在台协同SEMI(国际半导体产业协会),与国立清华大学共同举办「SEMI High Tech U」学习营
因应物联网挑战 KLA-Tencor锁定封装量测技术 (2015.05.12)
相信大家都知道,晶圆代工龙头台积电董事长张忠谋曾经对于物联网应用保持极为看好的态度,也声明了台积电不会在物联网市场缺席。 张忠谋的声明,似乎也影响到半导体设备业者们的解决方案布局,半导体设备业者KLA-Tencor在向台湾媒体发表解决方案前,同样提及了物联网与智能型手机对于整个市场拥有一定的向上带动效果在
KLA-Tencor以全新量测系统扩充5D图案控制解决方案 (2015.03.05)
为了因应先进集成电路制程挑战,KLA-Tencor近期推出两款量测设备,可支持16奈米(含)以下尺寸集成电路组件的研发和生产:Archer 500LCM和SpectraFilm LD10。Archer 500LCM overlay量测设备在提升良率的所有阶段提供了准确的overlay error回馈,可协助芯片制造商解决与patterning创新技术,例如multi-patterning和 spacer pitch splitting相关的overlay问题
意法半导体率领欧洲研发项目,开发下一代光学MEMS产品 (2015.03.02)
意法半导体(STMicroelectronics;ST)将担任Lab4MEMS II项目负责人。Lab4MEMS II是以第一代Lab4MEMS项目(始于2013年4月)的成功经验为基础而扩展的第二代项目计划,实现下一代应用技术
KLA-Tencor推出5D图案成型控制解决方案的关键系统 (2014.08.29)
KLA-Tencor 公司今天宣布,推出WaferSight PWG 已图案晶圆几何形状测量系统、LMS IPRO6 光罩图案位置测量系统和 K-T Analyzer 9.0 先进数据分析系统。这三种新产品支持 KLA-Tencor 独特的 5D 图案成型控制解决方案,此方案着重于解决图案成型制程控制上的五个主要问题 — 组件结构的三维几何尺寸、时间效率和设备效率
KLA-Tencor 为领先的积体电路技术推出检测与检查系列产品 (2014.07.08)
今天,在「SEMICON West 国际半导体展」上,KLA-Tencor 公司宣布推出四款新的系统— 2920 系列、Puma 9850、Surfscan SP5 和eDR-7110 — 为16nm 及以下的积体电路装置研发与生产提供更先进的缺陷检测与复查能力
KLA-Tencor 宣布推出新型 Teron SL650 光罩检测系统 (2014.05.26)
KLA-Tencor 公司今天宣布推出 Teron SL650,该产品是专为集成电路晶圆厂提供的一种新型光罩质量控管解决方案,支持 20nm 及更小设计节点。Teron SL650 采用 193nm 照明及多种 STARlight 光学技术,提供必要的灵敏度和灵活性,以评估新光罩的质量,监控光罩退化,并检测影响良率的光罩缺陷,例如在有图案区和无图案区的雾状增长或污染


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