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SoC 设计验证与测试方案研讨会 (2007.04.20)
明导国际将举办 SoC 设计验证与测试方案研讨会，会中来自明导国际的专业人员将透过解说及展示，呈现最新最完整的先进验证以及测试解决方案。
研讨会的各个议程将说明明导国际领先业界的验证解决方案如何有效提升可预测性、效率与生产力；先进验证方法又如何排除下游厂商的限制、支持任何的程序并延伸至完整 SoC 的验证问题 |
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SoC 设计验证与测试方案研讨会 (2007.04.20)
明导国际将举办 SoC 设计验证与测试方案研讨会，会中来自明导国际的专业人员将透过解说及展示，呈现最新最完整的先进验证以及测试解决方案。
研讨会的各个议程将说明明导国际领先业界的验证解决方案如何有效提升可预测性、效率与生产力；先进验证方法又如何排除下游厂商的限制、支持任何的程序并延伸至完整 SoC 的验证问题 |
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复制与创新的难题 (2007.03.23)
为了实际了解目前厂商所面临的问题以及未来该如何因应，本刊专访了IC设计服务商「创意电子」、EDA工具商「明导国际（Mentor Graphics）」及芯片供货商「硅统科技」，以他们实际接触市场及客户的经验，来谈谈台湾发展消费性电子IC的困难点在哪 |
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立足矽谷 放眼亚洲(下) (2007.01.26)
全球资讯科技产业发展重地「矽谷」，位在北加州，其地理涵盖范围北至San Mateo、西至Santa Cruz Mountains、东至San Francisco Bay、而南至Morgan Hill，是一个投资公司和新兴创业家十分热衷的地区 |
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明导国际Calibre OPCverify工具获松下电器选用 (2006.09.21)
明导国际（Mentor Graphics）宣布松下电器（Matsushita Electric Industrial）所属的半导体公司已决定将Calibre OPCverify工具用于65奈米和更先进制程的生产作业。Calibre OPCverify能于制造芯片前找出和修复潜在的重大良率问题，进而克服制程变异管理的艰巨挑战 |
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明导国际台湾区新总经理林棨璇上任 (2006.09.07)
EDA电子自动化厂商明导国际(Mentor Graphics)举办2006年新任台湾区总经理-林棨璇小姐记者会。上任后，林棨璇负责Mentor Graphics在台湾业务和运作，包含业务发展策略、销售、技术、以及整体管理和协调 |
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明导国际台湾区新总经理上任记者会 (2006.09.05)
Mentor Graphics (明导国际) 将于 9 月 6 日假台北君悦大饭店举办一场记者会，有鉴于Mentor Graphics 台湾区总经理 – 林棨璇小姐于2006年 7 月正式上任后，只于EDA Tech Forum与媒体记者朋友匆匆见面，希望借着这个记者会与您正式会面，同时让您能了解明导国际2007年的展望以及策略方针 |
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明导国际台湾区新总经理上任记者会 (2006.09.05)
Mentor Graphics (明导国际) 将于 9 月 6 日假台北君悦大饭店举办一场记者会，有鉴于Mentor Graphics 台湾区总经理 – 林棨璇小姐于2006年 7 月正式上任后，只于EDA Tech Forum与媒体记者朋友匆匆见面，希望借着这个记者会与您正式会面，同时让您能了解明导国际2007年的展望以及策略方针 |
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Mentor Graphics (明导国际) EDA技术论坛 (2006.07.12)
Mentor Graphics将于2006年8年15日(周二)于新竹国宾大饭店举行一场盛大的EDA技术论坛，为IC设计工程师提供了与世界一流EDA业界专家进行面对面交流的机会。
Mentor Graphics CEO & Chairman, Mr. Walden C. Rhines将出席为您揭示EDA市场的最新发展趋势，并说明在半导体制程技术朝向65nm发展的趋势下，EDA设计工具的崭新变革，进而带动EDA产业的快速发展 |
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Mentor Graphics (明导国际) EDA技术论坛 (2006.07.12)
Mentor Graphics将于2006年8年15日(周二)于新竹国宾大饭店举行一场盛大的EDA技术论坛，为IC设计工程师提供了与世界一流EDA业界专家进行面对面交流的机会。
Mentor Graphics CEO & Chairman, Mr. Walden C. Rhines将出席为您揭示EDA市场的最新发展趋势，并说明在半导体制程技术朝向65nm发展的趋势下，EDA设计工具的崭新变革，进而带动EDA产业的快速发展 |
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Mentor Graphics (明导国际) 2006 ADiT研讨会 (2006.05.23)
全球领先的EDA电子自动化厂商─Mentor Graphics (明导国际)将在6月8号 (星期四) 上午9:00至中午12:30假新竹国宾大饭店举行 ADiT研讨会，会中将针对仿真速度及精准度的挑战，带您面对在先进的深次微米制程下 |
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Mentor Graphics Calibre xRC 研讨会成果佳 (2006.05.18)
EDA电子自动化厂商─Mentor Graphics (明导国际)，于5月11日举办了一场 Calibre xRC 研讨会，共吸引了近200名半导体界精英参加。会中Mentor Graphics针对Calibre xRC这个萃取寄生参数 (parasitic extraction) 问题的突破性工具做了详细的说明，另外也回答了已使用Calibre xRC的工程师的众多疑问 |
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Sun利用Mentor Graphics CDC解决方案 (2006.04.27)
明导国际 (Mentor Graphics)宣布太阳计算机 (Sun) 利用Mentor的0-In CDC (Clock-Domain Crossing) 技术设计出UltraSPARC T1处理器。这款日前刚发表的突破性处理器是内含8个核心并能同时支持32组线程的64位处理器设计，不但采用该公司专利的CoolThreads技术，还包含开放原始码的硬件和软件规格 |
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Mentor Graphics (明导国际) 2006 Calibre xRC研讨会 (2006.04.25)
Calibre xRC 是 Mentor Graphics 萃取寄生参数 (parasitic extraction) 问题的突破性工具，其萃取引擎可提供必要的精确度和萃取效能。Calibre xRC 本身也提供一个完整流程，可将重点放在所选择的必要数据，并可产生多种不同的网表格式数据，以便支持不同的后布局分析工具 |
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Mentor Graphics (明导国际) 2006 Calibre xRC研讨会 (2006.04.25)
Calibre xRC 是 Mentor Graphics 萃取寄生参数 (parasitic extraction) 问题的突破性工具，其萃取引擎可提供必要的精确度和萃取效能。Calibre xRC 本身也提供一个完整流程，可将重点放在所选择的必要数据，并可产生多种不同的网表格式数据，以便支持不同的后布局分析工具 |
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明导国际2006 Calibre xRC研讨会 开始受理报名 (2006.04.24)
EDA电子自动化厂商─明导国际(Mentor Graphics)将在5月11号(星期四)上午9:00至中午12:30假新竹国宾大饭店举行Calibre xRC研讨会，会中将针对65nm以及RF design两个重要的应用领域来介绍如何克服寄生参数萃取问题的挑战 |
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Mentor支持65奈米制程Common Platform技术 (2006.03.31)
明导国际(Mentor Graphics)日前宣布其Calibre设计与制造平台的多款最佳工具已通过认证，现能为IBM/特许半导体/三星的65奈米制程Common Platform技术提供强大可靠的可制造设计(DFM)方法支持 |
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EDA技术论坛公布2006年全球活动日程 (2006.03.16)
明导国际 (Mentor Graphics) 宣布，EDA技术论坛 (EDA Tech Forum) 已公布2006年全球活动日程，正式为这个电子工程产业重要的技术研讨和互动交流盛会揭开序幕。这项为期18天的研讨会系列将在北美、欧洲、日本和亚太地区陆续举行，它们将提供完整丰富的技术信息帮助电子工程师克服当前最困难的设计挑战 |
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明导国际Eldo仿真工具获联发科技选用 (2006.01.13)
明导国际(Mentor Graphics)与联发科技日前共同宣布，联发科技已选择Mentor Graphics Eldo仿真工具做为内存特性分析(memory characterization)的标准SPICE仿真器。Eldo提供内存设计所需的高精确度和快速分析能力，还兼容于现有的内存特性分析流程，现已成为联发科技的内存特性分析验收(sign-off)工具之一 |
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智原科技采用明导国际Eldo做为SPICE仿真器 (2006.01.12)
明导国际与智原科技11日共同宣布智原科技采用明导国际的Eldo仿真器，以此技术应用于其组件数据库与硅智财特性分析的流程上，相较于其他厂家的SPICE仿真器，明导的Eldo可以改善电路仿真上收敛的比率从60%至100%，并且缩短特性分析时所花费的时间 |
