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CTIMES / Pvd
科技
典故		 第一颗晶体管(Transistor)的由来

第二次世界大战末期，贝尔实验室开始一项研究计划，目标是研发出一种体积更小、功能更强大、更快速且可靠的装置来取代真空管。1947年12月23日，由贝尔实验室研发的晶体管取代了真空管，优点是体积更小、更可靠、且成本低廉，不仅孕育了今日遍及全球的电子半导体产业，同时也促成电讯计算机业、医学、太空探测等领域产生戏剧性的改变。
半导体薄膜沉积市场复苏 (2002.07.24)
综合外电消息，整体薄膜沉积市场正如预期般复苏中，特别是新兴市场ALD（Atomic Layer Deposition；原子层沉积）最为显著。 根据Information Network指出，由于去年半导体产业景气低迷，连带使整体薄膜沉积设备市场仅达到34亿美元，整整衰退了46.1％，预计今年将有4％的成长率，整体市场可望成展至36亿美元
台湾应用材料林口办公室开幕 (2000.05.25)
台湾应用材料公司为协助南亚二厂进行厂能的扩充，特别于林口南亚二厂附近成立一新的服务据点，并成立一支技术服务团队，全力支援南亚二厂进行量产。 南亚二厂位于林口华亚工业园区，今年二月成立试产线，并计划于今年下半年进入量产

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