在奈米技术下，减少电路互连延迟（interconnect delay）为决定效能（performance）的最关键因素之一，因此设计全程皆需考虑互连的效应，即以互连为导向之设计流程（interconnect -driven design flow），以达成timing closure及design convergence。除此之外，近几年来半导体大厂纷纷投入大笔经费研究新的制程技术，例如铜制程连线技术等等，更突显出了减少电路互连延迟的重要性。

基本上，减少总线长（wirelength）可以同时减少电路互连延迟，但跟最佳绕线距离（euclidean distance）相比，传统上使用垂直绕线（orthogonal routing）的曼哈顿架构（Manhattan-architecture）却可能会增加总线长。为了克服曼哈顿架构的缺点，X-initiative[1]力推X架构（X-architecture）来解决电路互连延迟的问题。

X架构简介与市场现况
...
...