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18吋晶圆2018年量产太乐观?
成本分摊、合作创新是关键

【作者: 范眠】2012年12月14日 星期五

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图一 : 不管是从芯片制造商和设备商的角度来看,18吋晶圆都已成为少数几家业者才能玩得起的游戏,这是与业界朝12吋晶圆移转时,完全不同的产业环境与需求。
图一 : 不管是从芯片制造商和设备商的角度来看,18吋晶圆都已成为少数几家业者才能玩得起的游戏,这是与业界朝12吋晶圆移转时,完全不同的产业环境与需求。

在9月初Semicon Taiwan举办的「450mm供应链」研讨会中,台积电和全球450联盟(Global 450 Consortium, G450C)明确揭示了18吋晶圆预计于2018年投入量产的发展时程。相对于台积电的信心满满,包括TEL(东京威力科创)、Lam Research、应用材料和KLA-Tencor等设备制造商,却都异口同声地谈到,设备业者所面临的严峻开发成本与风险挑战。


G450C的18吋晶圆量产时程

G450C是由英特尔、三星、台积电、IBM和GlobalFoundries五家龙头业者于去年共组的18吋晶圆研发联盟,在这些业者的积极推动下,18吋晶圆的发展蓝图也越来越为明确。


台积电派驻于G450C的林进祥博士表示,一年来18吋晶圆的技术开发与业者的参与程度都有显著进展。G450C的目标是从今年起展开14奈米的技术展示,到2015~2016年进入10奈米试产。


而就制造设备的成熟度来看,大部分设备到2014年都能完成试验机台的开发,但最重要的蚀刻技术,则预计要到2016年完成初步试验机台,2018年完成量产机台开发。


目前,G450C是采用压印(imprint)技术作为过渡时期的蚀刻方案,未来将朝193i(浸润式193nm)与EUV发展。G450C的无尘室预定于2012年12月就绪,这将会是全球第一座18吋晶圆厂。


台积电450mm计划资深总监游秋山博士则是提到了公司内部对18吋晶圆设备设定的目标,希望与12吋设备相比,整体设备效率能于2018年达到1.1倍、2020年提升至1.8倍。此外,设备价格小于1.4倍、尺寸小于1.5倍、缺陷密度小于0.4倍,以及平均每片晶圆能维持相同的水电消耗。


这个数据一提出,当场就有设备业者问到,若芯片制造商希望设备效率提高1.8倍,但却仅希望付出1.4倍的价格,这样如何说服设备业者投入庞大资金开发新的18吋晶圆设备?


设备厂商痛苦跟随

这个问题,的确触及到众多设备制造商的痛处。回想当初移转至12吋晶圆的惨痛教训,现在18吋晶圆的大饼更是不这么好吃。


推动18吋晶圆量产,主要的考虑在于取得成本效益,希望能延续过去从6吋移转至8吋、12吋的发展轨迹,透过更高的每片晶圆产出,让芯片成本能持续下降。然而,这套过去适用的摩尔定律,随着制程微缩趋近极限,以及18吋晶圆的庞大机台投资,能否再和过去一样带来同样的成本效益,实在令人怀疑。


此外,全球经济前景的不确定性,以及未来只有少数几家制造业者有能力买单,投资报酬率有限,种种因素,都让设备业者对此议题显得裹足不前,进退两难。


TEL副总裁暨企业营销总经理?口章九甚至说,如果业界没有充分的事先讨论,共同开发机台,450mm将会是一场灾难。而且,漫长的450mm市场成熟期会让设备商的财务风险增加。


Lam Research公司450mm计划副总裁Mark Fissel也以12吋晶圆移转为例指出,从1995年试验机台首度完成开发,由于历经网络泡沫等经济因素,一直到2004年,半导体产业整整花了9年的时间,才使得12吋晶圆出货量超过8吋晶圆。


而18吋晶圆即使能于2018年投入量产,可能需要更长的时间才能成为主流,面对既有12吋晶圆先进制程持续投资与18吋晶圆开发的双重压力,设备业者若没有强大的财务支持,很有可能无以为继。


游秋山也坦承,移转至18吋晶圆还有许多挑战有待克服。首先,业界有没有办法在2015年前就10奈米制程蚀刻技术取得重大突破?同时,合理的设备成本、显著的生产力提升、全自动化无人生产线、环保工厂等议题都需要获得全面性的解决,才有可能让18吋晶圆量产得到预期的成本效益。


游秋山指出,当初业界朝12吋晶圆移转时,也曾面临许多质疑。但事实证明,透过多项的技术创新与突破,仍然克服了种种挑战,因此他乐观认为,18吋晶圆量产目标终将能够成功。


不过,不管是从芯片制造商和设备商的角度来看,18吋晶圆都已成为少数几家业者才能玩得起的游戏,这是与业界朝12吋晶圆移转时,完全不同的产业环境与需求。?口章九表示,即使几家重量级制造商已经订出了量产时程目标,但高昂的进入成本,将是不利于创新的。


ASML的联合开发计划

尽管困难重重,但台积电、英特尔、三星这些龙头业者,为了延续产业发展、持续保持领先优势,并建立更高的竞争障碍,势必得在朝18吋晶圆移转的这项行动中奋力前进。


对此议题,应用材料硅晶系统部门副总裁Kirk Hasserjian总结了顺利移转至18吋晶圆世代的六项关键因素,分别是:业界同步的移转时程、蚀刻技术成熟度、成本分摊、协同合作、创新以及供应链的就绪。


其中成本分摊、合作创新在18吋晶圆世代将显得重要。林进祥也鼓励设备业者说,现在共同承担风险,未来终将能共同分享利益。


提到成本与风险分摊,微影设备大厂ASML日前提出的联合开发计划便是一个极佳的范例。微影技术能否就绪,攸关18吋晶圆量产目标的实现,而ASML的动作更是扮演了举足轻重的角色。


ASML在今年7月提出了客户联合投资计划,在英特尔首先表态以41亿美元收购ASML的15%股权后,台积电和三星也分别跟进,各取得5%和3%的股权,将共同研发下一代微影技术。


台积电、英特尔、三星是未来半导体制造的三大势力,尽管彼此间的角力激烈,但从G450C的合作,到ASML的共同入主,却又不得不共同分摊下一代18吋晶圆制造的庞大研发成本。它们之间的竞合关系是未来半导体产业的关注重点,也是18吋量产目标能否成真的重要关键。


(作者为CTIMES特约主笔)


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