比利时微电子研究中心（imec）近日宣布所采购的ASML最新EXE:5200高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）微影系统已顺利到厂，将进一步确立其在埃米时代扮演产业发展基地的关键地位，并提供其全球夥伴生态系统提前取得新一代晶片微缩技术的空前机会。

图一 : imec近日宣布所采购的ASML最新EXE:5200高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）微影系统已顺利到厂，

这套High-NA EUV系统将直接整合量测和图形化工具及材料的全面套件，赋予imec及其生态系统夥伴发展量能，以解锁2奈米以下逻辑和高密度记忆体技术所需的性能，为先进AI与高效能运算技术注入快速成长的动能。

imec执行长Luc Van den hov表示：「过去两年来，imec与ASML在双方共同於荷兰Eindhoven建立的High-NA EUV实验室，携手生态系统来领先研发High-NA EUV技术，已经为高数值孔径（0.55NA）EUV微影技术写下重要篇章。」
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