账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES / 文章 /
突破行动OLED显示器量产瓶颈
蚀刻技术进入制程

【作者: Tung-Huei Ke】2021年06月16日 星期三

浏览人次:【5765】

OLED显示器的市场热度持续攀升,在行动显示与微显示(micro-display)应用上,一些特定的技术挑战也随之浮现。现有的制程,像是精密金属遮罩(fine metal mask;FMM)与喷墨印刷(inkjet printing;IJP)技术,都还无法满足新世代显示技术的应用需求,例如达到更高的解析度与像素密度,或是打造出成像品质充足的透明显示器。



图一 : 爱美科在OLED显示器制造技术上发现了重大突破,可望解决次世代行动显示的技术瓶颈。
图一 : 爱美科在OLED显示器制造技术上发现了重大突破,可望解决次世代行动显示的技术瓶颈。

爱美科(imec)证实了光刻技术(photolithography),可??成为克服FMM与IJP技术瓶颈的首选方法,因此,他们将一套全新的制程导入了过往几??无人预料到的领域。


行动OLED显示器的趋势
...
...

另一名雇主 限られたニュース 文章閱讀限制 出版品優惠
一般訪客 10/ごとに 30 日間 5//ごとに 30 日間 付费下载
VIP会员 无限制 20/ごとに 30 日間 付费下载
相关文章
进入High-NA EUV微影时代
跨过半导体极限高墙 奈米片推动摩尔定律发展
2024年:见真章的一年
小晶片大事记:imec创办40周年回顾
运用能量产率模型 突破太阳能预测极限
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关新闻
» 艾迈斯欧司朗全新UV-C LED提升UV-C消毒效率
» 台欧携手 布拉格论剑 晶片创新技术论坛聚焦前瞻发展
» ASM携手清大设计半导体制程模拟实验 亮相国科会「科普环岛列车」
» TIE未来科技馆闭幕 GenAI Stars、IC Taiwan Grand Challenge奖揭晓
» 诺贝尔物理奖得主登场量子论坛 揭幕TIE未来科技馆汇聚国内外前瞻科技


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BI1CVBUUSTACUKF
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw