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從資料中心到先進封裝的散熱變革

AI熱浪下的「冷靜」思維

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AI時代到來,算力成為新時代的戰略資源。然而,在運算效能不斷突破的同時,散熱的也成為整體AI硬體產業一道越來越高的障礙牆。尤其當單顆晶片的熱設計功耗(TDP)邁向1000W大關,傳統的散熱方案已面臨新的挑戰,散熱技術的優劣,直接影響AI系統的穩定性與能源效率。


在系統層級,焦點圍繞在AI伺服器所產生的驚人發熱量,推動資料中心從傳統的氣冷轉向液冷,無論是直接晶片液冷(DLC)還是沉浸式液冷,都是伺服器架構師的標配。


而在零組件層級,最關鍵的便是AI晶片端,也就是高性能GPU與CPU的製造息息相關的先進封裝更嚴峻的挑戰發生在晶片層級。隨著摩爾定律趨緩,先進封裝如CoWoS與3D IC成為延續算力成長的關鍵,但將多顆晶片緊密堆疊的後果,是熱密度的幾何級數增加。微小的熱點若無法及時排除,將導致晶片降頻甚至損毀。
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