帳號:
密碼:
最新動態
產業快訊
CTIMES / 文章 /
良率低落元兇?四大表面形貌量測手法 如何選?
 

【作者: 張廷安】   2025年07月07日 星期一

瀏覽人次:【3179】

選錯量測分析手法,可能讓你產品良率下滑、製程誤判、重工延宕,甚至導致整批報廢。隨著AI晶片、CoWoS、HPC等先進製程快速推進,每個關鍵工序都依賴高精度的表面形貌量測。問題是,不同樣品適用的分析手法差很大,你真的選對了嗎?


隨著AI晶片、高效能運算(HPC)、CoWoS等先進封裝技術蓬勃發展,對製程控制與量測精度的要求也愈加嚴格。從晶圓製造、蝕刻、鍍膜,到晶粒封裝與模組整合,每一道工序都仰賴表面形貌量測技術,協助掌握品質異常與製程穩定度。


什麼是「表面形貌量測」?簡單來說,就是測量樣品表面的微觀高低起伏、粗糙度、曲率、平整度等幾何特性。這些數據有助於了解材料或製程是否穩定、是否有異常,進而影響後續良率與產品可靠度。
...
...

使用者別 新聞閱讀限制 文章閱讀限制 出版品優惠
一般使用者 10則/每30天 0則/每30天 付費下載
VIP會員 無限制 25則/每30天 付費下載

相關文章
台灣機械設備業挺進先進封裝生態鏈
揮別製程物理極限 半導體異質整合的創新與機遇
電化學遷移ECM現象如何預防?
記憶體不再撞牆!
雲端部署引領IC設計邁向全自動化
相關討論
  相關新聞
» WIRobotics於CES 2026展示穿戴式步行輔助機器人
» 恩智浦攜手GE HealthCare 在CES 2026展示邊緣AI醫療創新
» 波士頓動力全電動Atlas可商業量產 定義為工業超級勞工
» 華碩與Xreal合作推出AR穿戴螢幕
» 英特爾18A製程正式商用 將與晶圓代工對手正面對決


刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2026 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3  v3.20.1.HKA1953UFEISTACUK2
地址:台北數位產業園區(digiBlock Taipei) 103台北市大同區承德路三段287-2號A棟204室
電話 (02)2585-5526 #0 轉接至總機 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw