为了克服半导体设计与「次波长」(sub-wavelength)制造间日益扩大的障碍，ASML MaskTools公司，与Mentor Graphics最近就签订了一项合作协议，它将会结合双方在图像处理设备、软件和先进制程方面的技术和经验，并且发展出一套完全整合的制程解决方案，MaskTools是ASML公司独资拥有的一家关系企业。如果客户想要成功的设计出次波长电路结构的芯片、加速深次微米技术的升级、并且提升芯片的制造良率，那么这套解决方案将是不可或缺的要件。除此之外，这也是一家先进影像技术的供货商－也就是ASML公司－与一家占市场领导地位的电子设计自动化厂商－也就是Mentor Graphics公司－之间所达成的第一项合作协议。

今天，晶片的制程已经缩小到0.13微米以下，这只等于是光波长的一半；此时，若要把晶片的制造良率提升到一个可接受的范围，那么全芯片的可制造性验证以及光学加强技术就是非常重要的关键；光学加强技术包括了「光学制程校正」(Optical Proximity Correction；OPC)技术、「相位偏移光罩」(Phase Shifting Mask；PSM)技术、「散射屏障」(scattering bars)以及「偏轴照明」(off-axis illumination)技术，它们可以加强有的「光学微影程序」(optical lithography)，并且支持一些更精密的应用领域；过去，厂商大都认为只有下一代的微影程序才能满足这些应用需求。

在这些应用领域中，Mentor Graphics、MaskTools以及ASML公司各有专长，他们将会透过自己的知识和经验，利用多种的光学制程加强技术，以满足全芯片可制造性的验证需求。举例来说，ASML提供了它的IP组件、先进的图像处理系统、研究设施、散射屏障处理技术以及相关的硅芯片可制造性经验；Mentor Graphics则提供了Calibre套装工具系列，在芯片的实体验证和可制造性分析上，它们可说是业界的标准工具，包括了Calibre OPCpro、Calibre PSMgateTM和它的芯片/布局对照验证工具、Calibre ORCTM以及Calibre PRINTimage。透过双方的合作，两家公司就能提供速度最快、精确度又很高的全芯片电路模型建立与制程校正技术，这包括了光罩生产的效应、先进的图像处理、光阻与蚀刻效应。

「透过这项联盟，我们不仅扩大了光学微影程序的寿命，而且还开创了一个全新的市厂－也就是可制造性验证的市场。」ASML MaskTools公司的总裁Doug Marsh就表示说，「这个市场包含了电子设计自动化和半导体制造产业中的大多数厂商，而经由双方的合作，ASML MaskTools以及Mentor Graphics公司提供了一个完整的制造性解决方案，可以支持目前和未来的光学微影技术。」

「ASML公司拥有先进的制造技术和经验，我们的Calibre工具则把「光学制程校正」和「相位偏移光罩」组合在一起，并且提供了高度整合的实体验证和次波长可制造性技术。」Mentor Graphics实体与静态验证部门的总经理Brian Derrick表示说，「透过了双方的合作，从集成电路的布局开始，一直到硅芯片可制造性的验证，我们都提供了业界最先进、使用最简单的处理流程。我们非常期盼能在ASML公司的美国技术发展中心与他们共同合作，将光阻、光罩、曝光光源以及镜片设计程序做最佳处理，并且把一个完整的可制造性解决方案提供给双方的共同客户。」