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EV Group步進重複奈米壓印微影系統突破生產微縮化
 

【CTIMES/SmartAuto 陳玨 報導】   2021年06月10日 星期四

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相較於昔日步進重複奈米壓印微影(NIL)的進一步開發與生產微縮化的需求,常被受限於較大面積上精準母模的可用性。晶圓接合暨微影技術設備商EV Group(EVG)推出次世代步進重複NIL系統EVG770 NT。EVG770 NT可以為擴增實境(AR)波導管、晶圓級光學技術(WLO)及先進實驗室晶片元件量產使用的大面積母模加工,促成複雜的微型與奈米圖案結構的精準複製來進行大面積母模加工。

EVG 770 NT步進重複奈米壓印微影系統為擴增實境波導管、晶圓級光學技術與先進生物醫學晶片,促成微型與奈米結構的大面積母模加工。
EVG 770 NT步進重複奈米壓印微影系統為擴增實境波導管、晶圓級光學技術與先進生物醫學晶片,促成微型與奈米結構的大面積母模加工。

借助EVG在NIL與步進重複母模累積數十年的經驗,EVG770 NT的設計旨在成為一套讓效能、生產力與製程控制性極大化的完全生產導向系統,並提供先進的疊層精準度與解析度,尺寸最高可以放大至300mm晶圓及第二代面板尺寸。因此,今後客戶可以實現量產、具成本效益與高保真度的NIL圖案成形。

WLO為推動NIL普及的主要市場之一,從改良智慧型手機的數位相機自動對焦,以及提升智慧型手機安全性的人臉辨識,到AR與虛擬實境(VR)頭戴裝置使用的3D模型與影像增強,已經為消費性行動電子產品應用帶來全新體驗。

步進重複NIL藉由電子束或其它技術完成單一晶片母模,並在基板上進行多次複製以打造全面積的主模板與母模,以符合成本效益的生產WLO與微流控元件使用的微結構。如此產出的步進重複母模,可以用來生產供接下來晶圓級與面板級製造使用的工作模具。

  能在面積越來越大的基板上複製較大母模的能力,可以同時生產更多的產品,也可以在不用拼接的情況下,生產較大型個別產品。與鑽石鑽孔、雷射直寫與電子束書寫等傳統母模加工製程相比,這種方法帶來顯著的良率與成本優勢。由於傳統母模加工製程的低產出量與高成本,導致更難以擴充到更大基板。結合步進重複製程可以促成效能最佳化的晶片使用,也能更有效地將這些高品質圖案導入生產線。

  EV Group企業技術總監Thomas Glinsner博士表示:「EV Group對於開發與完善我們的步進重複母模加工技術的投資已經超過十年,目的是將NIL製造的優勢帶到更廣泛的市場與應用。這項努力的成果帶來了EVG770 NT,它補足並且成功橋接自由度微光學或高保真度奈米圖案成形,具成本效益的量產需求。借助這個突破性的步進重複解決方案,我們的客戶現在能夠打造自己的主模板,並將整個NIL製造流程導入企業內部,進而提供客戶更高的彈性與更短的生產製造周轉時間。」

EVG在其總部內的NILPhotonics技術中心提供工具展示與新系統的步進重複母模加工服務,此技術中心是對客戶與合作夥伴開放使用的創新育成中心,可協助縮短創新的光電元件與應用之產品上市時程。EVG770 NT包含有助於製程開發與生產的多項功能,EVG770 NT現已出貨給特定客戶,而EVG目前也開放接受全新系統的訂單。

產品功能

‧ 最大可以在300mm晶圓與第二代(370x470mm)面板等基板上,進行最大達80mm x 80mm的單一鏡頭/晶片模板的無拼接複製

‧ 250nm以內的對準精度與50nm以內的解析度

‧ 促成工作模具量產流程,避免昂貴的原始模具磨損

‧ 具更高能量的全新曝光光源設計,可大幅降低曝光時間

‧ 檢測用顯微鏡與即時製程的相機訊號饋送,可隨時隨地驗證與監控製程結果

‧ 非接觸的空氣承軸可以讓塵粒污染降至最低

‧ 自動化基板裝載與模具更換單元,具備五個模具的儲存緩衝器

‧ 壓印力量與脫膜力量的臨場控制與特性分析

‧ 將軟體升級至EVG最新的Computer Integrated Manufacturing(CIM)框架平台,其廣泛用於EVG量產製程設備上

關鍵字: 步進重複  奈米壓印微影系統  微縮化  EV Group 
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