半導體製程的精密與高效率要求，驅動了對高純度工業氣體的龐大需求。亞東工業氣體於華亞科技園區舉行新廠動土典禮，未來該廠將專注供應超高純度的氮氣、氧氣與氬氣，成為半導體製程穩定運作的關鍵支援。

亞東工業氣體總裁Olivier LETESSIER 與亞東商務暨業務開發協理 APINCHART

在半導體晶片的生產過程中，每一道製程都講求極致的純淨與穩定性，尤其是在AI與高效運算推動下，先進製程更須仰賴電子級氣體來維持品質與良率。氮氣被廣泛用於製程中的清洗與保護氣氛，能有效防止氧化與濕氣干擾；氧氣則用於蝕刻、氧化等關鍵步驟，參與薄膜的形成；至於氬氣，則多被應用於離子注入與物理氣相沉積（PVD）等程序，確保反應環境的穩定性與均勻性。

亞東工業氣體長期深耕半導體產業，華亞基地自2012年起便持續提供高品質的電子級氮氣與氧氣，如今為因應AI浪潮帶動的製程升級與氣體用量成長，亞東選擇在華亞科技園區原址擴建新廠。此投資專案為繼2024年完成的司馬庫斯廠與觀音二氧化碳回收設備後，最新啟動的大型產能擴增計畫。

新廠將導入最新模組化設備，不僅可大幅縮短建造時間，提升建廠效率，更具備高度營運彈性，可同時生產電子級氮氣、氧氣、氬氣與液態氮。預期新廠啟用後，將使華亞基地的電子級氮氣供應能力大幅提升，整體製程效率更可提升約5%，有效強化客戶端的生產穩定性與競爭力。

生產電子級氣體的難度遠高於一般工業氣體，需經過層層精密淨化與監控，以達到ppb（十億分之一）等級的純度。這對氣體廠商的製程技術、設備管理與品質控管都是極大考驗。

隨著全球半導體產能加速擴張，對電子級氣體的需求亦同步提升。亞東工業氣體此次於華亞的擴建計畫，不僅是對先進製程需求的回應，更展現其在台灣半導體供應鏈中不可或缺的角色。