为了协助实现下世代 MEMS 麦克风和射频（RF）滤波器的制造，科林研发（Lam Research）推出世界上第一个以生产为导向的脉冲雷射沉积（Pulsed Laser Deposition；PLD）机台。科林研发的 Pulsus PLD 系统提供具有最高含量的氮化铝??（AlScN）薄膜。可强化先进消费类和汽车元件的表现及功效。将 Pulsus PLD 增加到科林研发产品组合中，进一步扩展科林研发在特殊制程的沉积、蚀刻和单晶圆清洁产品的范围。RF 滤波器透过增加网路可以处理的频段数量，同时改善每个使用者的体验，在 5G、Wi-Fi 6 和 Wi-Fi 6E 效能中扮演关键角色。

Lam Research 以生产为导向的脉冲雷射沉积（PLD）机台可实现下世代 MEMS麦克风和射频滤波器的制造。Pulsus PLD 系统提供具有最高含量的氮化铝??薄膜，可强化先进消费类和汽车元件的功效。

Pulsus 采用突破性技术来沉积高品质薄膜，可强化 RF 滤波器和 MEMS 麦克风效能。薄膜中的??含量越高，元件的效能越好。Pulsus 提供的薄膜至少含有 40% 的??这是目前可用的最高浓度。特色是介电损耗低，压电系数是目前溅射薄膜的两倍，电能转换最隹化，从而提高射频滤波器的灵敏度和 MEMS 麦克风的效能。进一步改善的压电特性使无铅的氮化铝??（AlScN）取代????酸铅（PZT）成为可能。

在 Pulsus 的 PLD 制程中，使用密集雷射脉冲撞击目标材料。靶材被汽化，形成稳定、致密的电浆羽流，并以薄层沉积在晶圆上。此制程对於获得高品质、均匀的薄膜以及精确控制厚度和应力至关重要。Pulsus 的问世呈现首次将雷射用於薄膜沉积的大量制造。

Pulsus 的 PLD 功能搭配科林研发的 2300 平台设计，可确保卓越的薄膜均匀性和品质，而每片晶圆的成本仅为传统沉积方法的一小部分。这种效率可以帮助晶片制造商提高制造良率并加速其产品路线图的发展。Pulsus 现已出货给特定的专业元件制造商。