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Lam Research以Lam Cryo 3.0 低溫蝕刻技術加速實現3D NAND目標 (2024.08.06)
隨著生成式人工智慧（AI）普及推升更大容量和更高效能記憶體的需求，Lam Research科林研發推出第三代低溫介電層蝕刻技術Lam Cryo 3.0，已經過生產驗證，擴大在3D NAND快閃記憶體蝕刻領域的地位 |
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Lam Research以Lam Cryo 3.0 低溫蝕刻技術加速實現3D NAND目標 (2024.08.06)
隨著生成式人工智慧（AI）普及推升更大容量和更高效能記憶體的需求，Lam Research科林研發推出第三代低溫介電層蝕刻技術Lam Cryo 3.0，已經過生產驗證，擴大在3D NAND快閃記憶體蝕刻領域的地位 |
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突破行動OLED顯示器量產瓶頸 (2021.06.16)
OLED在顯示器市場炙手可熱，在行動顯示與微顯示方面也浮現了一些技術挑戰。愛美科證實了光刻技術可望克服目前OLED顯示器主要製程的生產瓶頸，作為未來的首選解決方案 |
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大昌華嘉將於2016年台灣半導體展推廣Evatec產品 (2016.09.02)
全球市場拓展服務集團大昌華嘉(DKSH)之科技事業單位與Evatec將聯合於9月7日至9月9日間，參加2016年台灣半導體展。大昌華嘉的展出位置為台灣台北南港展覽館4樓，攤位編號100 |
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大昌華嘉將於2016年台灣半導體展推廣Evatec產品 (2016.09.02)
全球市場拓展服務集團大昌華嘉(DKSH)之科技事業單位與Evatec將聯合於9月7日至9月9日間，參加2016年台灣半導體展。大昌華嘉的展出位置為台灣台北南港展覽館4樓，攤位編號100 |
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半導體新蝕刻技術問世 (2002.06.21)
自然期刊（Nature）20日報導，現在的製程使用光線或腐蝕性化學藥劑，在矽晶圓上蝕刻。全新的製程技術，則使用石英模具在熔化的矽上印刻。普林斯頓大學電子工程教授史帝芬‧周 (Stephen Y. Chou)說：「我們製程技術的優點，是能夠把體積縮小十分之一 |
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半導體新蝕刻技術問世 (2002.06.21)
自然期刊（Nature）20日報導，現在的製程使用光線或腐蝕性化學藥劑，在矽晶圓上蝕刻。全新的製程技術，則使用石英模具在熔化的矽上印刻。普林斯頓大學電子工程教授史帝芬‧周 (Stephen Y. Chou)說：「我們製程技術的優點，是能夠把體積縮小十分之一 |
