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CTIMES / Evm
科技
典故
第一顆電晶體(Transistor)的由來

第二次世界大戰末期,貝爾實驗室開始一項研究計畫,目標是研發出一種體積更小、功能更強大、更快速且可靠的裝置來取代真空管。1947年12月23日,由貝爾實驗室研發的電晶體取代了真空管,優點是體積更小、更可靠、且成本低廉,不僅孕育了今日遍及全球的電子半導體產業,同時也促成電訊電腦業、醫學、太空探測等領域產生戲劇性的改變。
R&S利用增強型動態前端 進一步對FSW進行加強 (2022.04.26)
誤差向量幅度(EVM)是表徵數位發射機和接收機性能的主要參數之一。Rohde & Schwarz的R&S FSW信號和頻譜分析儀一直是精度要求極高的先進測量儀器。 R&S FSW新型前端延續了創新之路,對毫米波範圍內的寬頻調製信號具有無與倫比的EVM測量精度
揭秘磁滯模式轉換器 : 電壓和電流模式控制 (2016.12.28)
為了比較不同的操作模式,在各模式的評估模組(EVM)上都有一個電壓模式(VM)裝置IC-VM,一個電流模式(CM)裝置...
德州儀器DLP LightCrafter Display 4710評估模組協助應用開發加速簡易 (2015.06.15)
德州儀器(TI)宣布其全新開發工具-DLP LightCrafter Display 4710 評估模組(EVM)正式上市,協助開發人員迅速評估DLP Pico 0.47吋 TRP Full-HD 1080p 顯示晶片組,搭配供應鏈體系,使1080p微型投影顯示應用開發更加快速簡易
立積:射頻前端設計 要靠硬工夫 (2014.04.13)
完善的無線網通系統除了需要基頻處理器與通用處理器的配合外,週邊電路的配合也相當重要,但就訊號鏈方面來說,從天線收發、功率放大器、切換器、低雜訊放大器等元件的搭配與訊號的傳遞,才是整體系統設計的主要關鍵

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