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搜尋「檢測工具」,共 59

隨著半導體產線高度自動化、設備聯網程度持續提高,資安風險已從企業IT系統延伸至生產設備與OT環境;一旦設備在進廠前即存在弱點、惡意程式或不安全設定,就可能成為攻擊者滲透晶圓廠的重要入口。資策會日前正式啟用全球首家SEMI E187資安檢測實

imec的量測專家在本文帶領讀者探索深耕40年的晶圓廠量測與檢測技術,瞭解圖形化和元件創新歷史的四大時期,提供imec前瞻量測發展藍圖,其發展動力與多項重大挑戰相關,包含尺寸微縮和3D技術的興起,還有成本和永續發展需求。

imec的量測專家將在本文帶領讀者探索深耕40年的晶圓廠量測與檢測技術,瞭解圖形化和元件創新歷史的四大時期,同時提供imec的前瞻量測發展藍圖,其發展動力與多項重大挑戰相關,包含尺寸微縮和3D技術的興起,還有成本和永續發展的需求。

CYBERSEC 2026 台灣資安大會日前假南港展覽二館登場,TeamT5(杜浦數位安全)今年特別展示為AI agent環境特別打造的「ThreatSonar Plus」 全方位端點安全檢測平台。 TeamT5執行長蔡松廷表示,面對AI

日本早稻田大學Takeo Miyake教授領導的研究團隊,近期研發出一款創新的智慧隱形眼鏡,能24小時不間斷地監測眼壓(IOP),為青光眼患者帶來革命性的管理工具。這項研究於2026年1月13日發表在國際權威期刊《npj Flexible

迎接全球AI基礎建設熱潮,美商應用材料公司近日也發表最新半導體製造系統,將專注在3大關鍵領域,分別是環繞式閘極(GAA)、電晶體在內的前瞻邏輯製程、高頻寬記憶體(HBM)在內的高效能DRAM等。進而提升AI運算所需的先進邏輯與記憶體晶片效能

荷蘭光刻巨頭 ASML 長期壟斷極紫外光(EUV)市場,其設備成為推動半導體製程不斷前進的關鍵。然而,外界原本寄予厚望的高數值孔徑(High NA)EUV 光刻機,近期卻傳出採用進度不如預期,反映出先進技術與市場現實之間的拉鋸。 高 NA

位於布魯克林的美國新創公司 Nanotronics 正在打造名為 Cubefabs 的模組化晶圓廠,旨在透過小規模、高彈性與 AI 自動化,重塑全球半導體製造格局。首座 Cubefab 預計在 18 個月內於紐約啟用,總建廠時間不到一年,設

電子束成像一直是重要的檢測工具,可看到光學技術無法看到的微小缺陷。應用材料公司推出新的缺陷複檢系統,幫助半導體製造商持續突破晶片微縮的極限。應材的SEMVision H20系統將電子束(eBeam)技術結合先進的AI影像辨識,能夠提供更精準

隨著生成式人工智慧(AI)的快速發展,企業面臨前所未有的網路安全挑戰。根據普華永道最新報告,超過40%的企業領導者坦言,對於生成式AI等新興技術帶來的風險了解不足。然而,這些技術的影響正逐步滲透各行各業,成為企業運作不可或缺的一環。 202

比利時微電子研究中心(imec)運算技術及系統/運算系統微縮研究計畫的資深副總裁(SVP)Steven Scheer探討imec與艾司摩爾(ASML)合建的High-NA EUV微影實驗室對半導體業的重要性。

在Semicon Taiwan 2024國際半導體展上,Fluke授權經銷商萬和儀器有限公司以先進的測試儀器展示大放異彩。在9月4~6日於南港展覽館二館四樓展出先進的測試儀器,讓參觀者能夠親身體驗半導體測試及電氣測量的未來,並且參與一系列有

隨著生成式 AI 和機器視覺檢測的快速發展,為智慧 AOI 檢測注入了新的活力。本文將聚焦在智慧 AOI 檢測市場的發展現況與趨勢,並剖析其在智慧工廠巡檢與品質管控的應用場景,並關注生成式 AI 與機器視覺檢測所帶來的變革。

迎接全球數位化及淨零碳排浪潮之下,經濟部累計3年來積極投入科研資源,共輔導台南逾400家傳產及中小企業雙軸轉型、技術升級,創造近150億元產值。並於今(30)日假南台灣創新園區舉辦科專成果展,透過所屬研發法人如工研院、金屬中心及食品所等展出

經歷2023年全球經濟景氣不佳影響,博世集團(Bosch)今(4)日最新公布2023年度在台營收324億新台幣(約9億6,300萬歐元),雖有鑑於整體環境的挑戰,業務發展低於預期,但各事業群在台保持市場地位。未來仍將在台灣致力以感測科技及聯

以科學實證開啟中西醫整合數位化診斷,中國醫藥大學中醫學院與友達集團旗下子公司友達耘康今(11)日簽署合作意向書,共同投入推動中醫數位化診斷標準的創新發展;友達耘康並捐贈一套先進的中醫數位化檢測系統,能夠以科學實證實現脈診、舌診等傳統中醫診斷

勤業眾信指出,2023年需特別關注的趨勢之一,是AI設計未來晶片。2023年全球半導體市場預估產值將達6,600億美元,AI不僅帶來經濟規模,還能協助晶片製造商突破摩爾定律邊界,節省時間與金錢。

最新公佈的標準,對交流/直流電源的隔離電壓、沿面距離、間隙距離和漏電流進行了嚴格的規範。如此一來,期望設計出能滿足多項要求、且小型、高效的電源電路就變得有些困難。