Molex公司子公司Polymicro Technologies最近宣佈提升其FDP光纖產品的性能，最新的性能改善了光纖產品在深紫外光應用(190nm - 325nm)中的負感性(solarization)。
Polymicro Technologies全球產品經理Teodor Tichindelean表示：“光纖FDP的推出是紫外光應用的一項革新，我們很高興能為客戶帶來具有更好品質的增強型FDP光纖產品，可承受紫外光的曝曬。”
Polymicro公司的silica內芯FDP光纖具有超高紫外光傳輸和超低紫外光曝曬特性，並有出色的耐輻射能力。FDP光纖可在低至190nm的條件下運作，並且具有出色的深紫外光耐曝曬特性，讓它成為深紫外光領域應用的首選。新型FDP光纖提供了更好的耐曝曬性能，可維持更長的傳輸時間，同時還對光纖的損壞降到最低。
對於深紫外光領域應用，高強度紫外光輻射的影響會引起光纖及傳輸的退化；光纖傳輸損耗通常會在數小時後發生。
Tichindelean進一步指出：“與先前的產品相比，改善過的FDP光纖在初始退化之後可將光輸出提高大約10%。對於Polymicro客戶，這可以轉化成更好的光發射和更長的產品壽命。”
Polymicro FDP光纖提供尺寸控制和緊密容差，並有一系列選項可供選擇，包括客製化的內芯尺寸、塗層、緩存和配件。Molex和Polymicro設施已通過了ISO 9001、13485和14001認證。
