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KLA-Tencor缺陷檢測系統可解決製程和設備監控關鍵挑戰 (2018.07.24)
KLA-Tencor公司宣布推出兩款全新缺陷檢測產品，在矽晶圓和晶片製造領域中針對尖端邏輯和記憶體節點，為設備和製程監控解決兩個關鍵挑戰。 VoyagerTM 1015系統提供了檢測圖案化晶圓的新功能，包括在光阻顯影後並且晶圓尚可重做的情況下，立即在微影單元中進行檢查 |
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我們能否為異質整合而感謝亞里士多德？ (2018.05.08)
技術創新使得越來越特殊和複雜的封裝變得可行，因此需要針對如微小的內部裸片裂紋這樣的缺陷類型提供靈敏度，同時也要保持產品靈活性， 以支持封裝技術隨著不斷增加的應用而朝著多個方向的發展 |
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KLA-Tencor為先進積體電路元件技術推出全新量測系統 (2017.03.20)
KLA-Tencor公司針對次十奈米（sub-10nm）積體電路（IC）元件的開發和量產推出四款創新的量?系統：Archer 600疊對量測系統，WaferSight PWG2圖案化晶圓幾何形狀測量系統，SpectraShape10K光學線寬（CD）量測系統和SensArray HighTemp 4mm即時溫度測量系統 |
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KLA-Tencor為先進積體電路元件技術推出全新量測系統 (2017.03.20)
KLA-Tencor公司針對次十奈米（sub-10nm）積體電路（IC）元件的開發和量產推出四款創新的量?系統：Archer 600疊對量測系統，WaferSight PWG2圖案化晶圓幾何形狀測量系統，SpectraShape10K光學線寬（CD）量測系統和SensArray HighTemp 4mm即時溫度測量系統 |
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先進製程邁入10nm以下時代 科磊推三款光罩檢測系統 (2016.08.19)
隨著半導體先進製程的推演，10奈米（nm）與7nm製程終露曙光；然而，先進製程須得搭配上更先進的光罩檢測技術；晶圓檢測設備製造商KLA-Tencor（科磊）看準了此一檢測需求，針對 10 奈米及7奈米製程，推出了三款先進的光罩檢測系統，分別是光罩決策中心（RDC）、可供光罩廠使用的Teron 640，以及供晶圓廠操作的Teron SL655 |
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先進製程邁入10nm以下時代 科磊推三款光罩檢測系統 (2016.08.19)
隨著半導體先進製程的推演，10奈米（nm）與7nm製程終露曙光；然而，先進製程須得搭配上更先進的光罩檢測技術；晶圓檢測設備製造商KLA-Tencor（科磊）看準了此一檢測需求，針對 10 奈米及7奈米製程，推出了三款先進的光罩檢測系統，分別是光罩決策中心（RDC）、可供光罩廠使用的Teron 640，以及供晶圓廠操作的Teron SL655 |
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KLA-Tencor 為積體電路技術推出晶圓全面檢測與檢查系列產品 (2016.07.13)
在 SEMICON West 上，KLA-Tencor 公司為前沿積體電路裝置製造推出了六套先進的缺陷檢測與檢查系統：3900 系列（以前稱為第 5 代）和 2930 系列寬頻電漿光學檢測儀、Puma 9980 雷射掃描檢測儀、CIRCL 5全表面檢測套件、Surfscan SP5無圖案晶圓檢測儀和 eDR7280電子顯微鏡和分類工具 |
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KLA-Tencor 為積體電路技術推出晶圓全面檢測與檢查系列產品 (2016.07.13)
在 SEMICON West 上，KLA-Tencor 公司為前沿積體電路裝置製造推出了六套先進的缺陷檢測與檢查系統：3900 系列（以前稱為第 5 代）和 2930 系列寬頻電漿光學檢測儀、Puma 9980 雷射掃描檢測儀、CIRCL 5全表面檢測套件、Surfscan SP5無圖案晶圓檢測儀和 eDR7280電子顯微鏡和分類工具 |
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大批量製造的裝置疊對方法 (2016.07.06)
本文介紹 DI/FI偏差表徵結果和變化來源，並介紹對DI調整饋送 APC 系統的影響。本文回顧該方法在大批量製造（HVM）晶圓廠的實施詳情，並在文章最後將討論該研究的未來方向 |
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「SEMI High Tech U學習營」首次在台舉行 (2016.05.10)
人生課堂沒有標準答案，唯有不斷嘗試體驗，才能走出屬於自己的道路。有感於學子與家長的徬徨，半導體檢測設備大廠美商科磊（KLA-Tencor）首次在台協同SEMI（國際半導體產業協會），與國立清華大學共同舉辦「SEMI High Tech U」學習營 |
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「SEMI High Tech U學習營」首次在台舉行 (2016.05.10)
人生課堂沒有標準答案，唯有不斷嘗試體驗，才能走出屬於自己的道路。有感於學子與家長的徬徨，半導體檢測設備大廠美商科磊（KLA-Tencor）首次在台協同SEMI（國際半導體產業協會），與國立清華大學共同舉辦「SEMI High Tech U」學習營 |
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KLA-Tencor以全新量測系統擴充5D圖案控制解決方案 (2015.03.05)
為了因應先進積體電路製程挑戰，KLA-Tencor近期推出兩款量測設備，可支援16奈米(含)以下尺寸積體電路元件的研發和生產：Archer 500LCM和SpectraFilm LD10。Archer 500LCM overlay量測設備在提升良率的所有階段提供了準確的overlay error回饋，可協助晶片製造商解決與patterning創新技術，例如multi-patterning和 spacer pitch splitting相關的overlay問題 |
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KLA-Tencor以全新量測系統擴充5D圖案控制解決方案 (2015.03.05)
為了因應先進積體電路製程挑戰，KLA-Tencor近期推出兩款量測設備，可支援16奈米(含)以下尺寸積體電路元件的研發和生產：Archer 500LCM和SpectraFilm LD10。Archer 500LCM overlay量測設備在提升良率的所有階段提供了準確的overlay error回饋，可協助晶片製造商解決與patterning創新技術，例如multi-patterning和 spacer pitch splitting相關的overlay問題 |
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KLA-Tencor推出5D圖案成型控制解決方案的關鍵系統 (2014.08.29)
KLA-Tencor 公司今天宣佈，推出WaferSight PWG 已圖案晶圓幾何形狀測量系統、LMS IPRO6 光罩圖案位置測量系統和 K-T Analyzer 9.0 先進數據分析系統。這三種新產品支援 KLA-Tencor 獨特的 5D 圖案成型控制解決方案，此方案著重於解決圖案成型製程控制上的五個主要問題 — 元件結構的三維幾何尺寸、時間效率和設備效率 |
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KLA-Tencor推出5D圖案成型控制解決方案的關鍵系統 (2014.08.29)
KLA-Tencor 公司今天宣佈，推出WaferSight PWG 已圖案晶圓幾何形狀測量系統、LMS IPRO6 光罩圖案位置測量系統和 K-T Analyzer 9.0 先進數據分析系統。這三種新產品支援 KLA-Tencor 獨特的 5D 圖案成型控制解決方案，此方案著重於解決圖案成型製程控制上的五個主要問題 — 元件結構的三維幾何尺寸、時間效率和設備效率 |
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KLA-Tencor 為領先的積體電路技術推出檢測與檢查系列產品 (2014.07.08)
今天，在「SEMICON West 國際半導體展」上，KLA-Tencor 公司宣佈推出四款新的系統 — 2920 系列、Puma 9850、Surfscan SP5 和 eDR-7110 — 為 16nm 及以下的積體電路裝置研發與生產提供更先進的缺陷檢測與複查能力 |
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KLA-Tencor 為領先的積體電路技術推出檢測與檢查系列產品 (2014.07.08)
今天，在「SEMICON West 國際半導體展」上，KLA-Tencor 公司宣佈推出四款新的系統 — 2920 系列、Puma 9850、Surfscan SP5 和 eDR-7110 — 為 16nm 及以下的積體電路裝置研發與生產提供更先進的缺陷檢測與複查能力 |
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KLA-Tencor 宣佈推出新型 Teron SL650 光罩檢測系統 (2014.05.26)
KLA-Tencor 公司今天宣佈推出 Teron SL650，該產品是專為積體電路晶圓廠提供的一種新型光罩品質控管解決方案，支援 20nm 及更小設計節點。Teron SL650 採用 193nm 照明及多種 STARlight 光學技術，提供必要的靈敏度和靈活性，以評估新光罩的品質，監控光罩退化，並檢測影響良率的光罩缺陷，例如在有圖案區和無圖案區的霧狀增長或污染 |
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KLA-Tencor 宣佈推出新型 Teron SL650 光罩檢測系統 (2014.05.26)
KLA-Tencor 公司今天宣佈推出 Teron SL650，該產品是專為積體電路晶圓廠提供的一種新型光罩品質控管解決方案，支援 20nm 及更小設計節點。Teron SL650 採用 193nm 照明及多種 STARlight 光學技術，提供必要的靈敏度和靈活性，以評估新光罩的品質，監控光罩退化，並檢測影響良率的光罩缺陷，例如在有圖案區和無圖案區的霧狀增長或污染 |
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增強支援能量 科磊台灣訓練中心正式啟用 (2014.05.23)
台灣是全球半導體生產重鎮，關鍵的半導體晶圓檢測設備，更是相關廠商十分重視的市場。為了策略性擴大在台投資，並實現與客戶合作的承諾，美商科磊（KLA-Tencor）宣佈，其位於台灣新竹的新訓練中心正式開幕，提供與客戶緊密相連的一個訓練場所 |
不管是IBM 的AIX、Sun 的Solaris、HP 的HP-UX、還是Linux等等，都是源自1969年AT&T貝爾實驗室（Bell Labs）所開發出來的Unix，回顧這段歷史，MULTICS（MULTiplexed Information and Computing Service）計劃是重要的關鍵。。
