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意法半导体打造矽光子技术 引领资料中心与AI运算
 

【作者: 王岫晨】2025年04月01日 星期二

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图一 :  矽光子技术引领资料中心与AI运算
图一 : 矽光子技术引领资料中心与AI运算

在高效能运算(HPC)与人工智慧(AI)应用快速发展的背景下,资料中心对高速、低功耗的光学互连技术需求日益提升。意法半导体(ST)射频与光通讯事业群总经理Vincent FRAISSE描绘了ST对未来科技的愿景:「我们正迈向一个由感测、自主推理和智慧执行驱动的世界。」这项愿景建立在三大技术支柱上:


  • 1. 边缘AI的革命性进展:FRAISSE预测,未来五年内边缘AI的运算效能将实现100倍的跃升,这将彻底改变终端设备的智能水平。


  • 2. 资安防护的战略升级:随着联网装置数量呈指数级增长,必须建立更强大的防御体系来应对日益复杂的网路威胁。


  • 3. 云端AI的整合架构:云端AI不仅处理数据传输,更将与边缘运算形成无缝整合的运算生态系统。「我们正见证AI基础架构的新纪元,未来所有伺服器元件都将透过光学互连技术紧密结合。」FRAISSE强调。




图二 :   云端互连智慧装置时代
图二 : 云端互连智慧装置时代

资料中心四大核心的技术突破

从半导体角度分析现代资料中心,FRAISSE将其解构为四大关键要素:运算单元、记忆体架构、电源管理和互连技术。意法半导体凭藉技术优势,特别聚焦於其中两个最具挑战性的领域:


「在电源供应方面,我们致力於提升能源转换效率;而在互连技术上,则要解决高速传输与能耗平衡的难题。」FRAISSE解释道,「AI爆发性成长带来的真正挑战,不是单纯追求更高性能,而是如何在提升频宽的同时,优化每单位运算的功耗效率。」


深入探讨云端光学互连技术时,FRAISSE详细解析了电光收发模组的关键组成:


  • · 微控制器(MCU):作为模组的「大脑」,精准控制所有运作流程


  • · 电子IC(EIC):采用意法领先的BiCMOS技术,负责驱动雷射光源和讯号放大


  • · 光子IC(PIC):执行光电转换的核心元件,正快速向矽光子技术演进


  • 「我们观察到一个明确的技术转折点,」FRAISSE指出,「无论是可??拔模组还是共封装光学(CPO)方案,矽光子技术都将成为未来十年的主流选择。」这项转变主要受到AI运算集群需求的推动,预计到2030年,相关晶圆代工市场规模将达到20亿美元。




图三 :  因应运算能力日益成长的需求
图三 : 因应运算能力日益成长的需求

当前资料中心的传输速度已达到800Gbps,但FRAISSE预见更惊人的发展:「3.2Tbps的传输能力将在不久後成为现实,这不仅需要革新性的矽光子技术,更需要整个产业链的协同创新。」他特别强调,这种速度跃升必须伴随着能源效率的同步提升,才能真正满足超大规模运算业者的需求。


传统收发模组依赖数位讯号处理器(DSP)来确保讯号完整性,但FRAISSE介绍了更具突破性的解决方案:


「透过矽光子技术与先进BiCMOS的结合,我们开发出线性可??拔光学模组(LPO),这种创新架构能直接省略DSP元件,不仅降低30%以上的功耗,更大幅减少讯号延迟。」


这项技术突破使得传输距离得以延长,同时支持单通道200Gbps的高速传输,为下一代400Gbps方案奠定基础。



图四 :   ST为云端伺服器打造先进解决方案
图四 : ST为云端伺服器打造先进解决方案

重磅技术发布:PIC100矽光子平台

最引人注目的,是FRAISSE正式宣布意法半导体的全新矽光子平台PIC100:


「这不仅是业界首个纯矽12寸制程解决方案,更采用创新的边缘耦合设计,相比传统垂直耦合方式可显着降低光学损耗。」


PIC100具有三大技术优势:


  • 1. 单通道200Gbps的传输能力,完美支援1.6T收发模组


  • 2. 12寸晶圆制程确保量产良率媲美数位CMOS


  • 3. 创新的材料堆叠技术简化封装流程


  • 「我们预计2025年下半年实现量产,这项技术已获得AWS的深度合作与采用,将应用於其新一代资料中心基础架构。」FRAISSE透露。




图五 :  云端光学互连的商机
图五 : 云端光学互连的商机

共封装光学(CPO)的未来布局

对於GPU互连的技术演进,FRAISSE特别看好共封装光学的发展前景:


「为了解决GPU间互连的密度与功耗挑战,业界正积极发展光纤直连GPU的解决方案。我们的PIC100平台提供完整的技术套件,包括高密度调变器、客制化EIC和TSV 3D封装技术,将加速这项技术的商业化进程。」


在电子IC(EIC)领域,意法半导体同步推出新一代BiCMOS技术B55X系列。FRAISSE解释其优势:


「B55X具有业界最隹的线性度和杂讯表现,特别适合LPO应用场景。目前已有20家客户采用我们的BiCMOS技术开发解决方案,这项技术同时应用於大规模生产的RF前端模组。」



图六 :  可??拔光学收发模组基础概念
图六 : 可??拔光学收发模组基础概念

垂直整合的竞争优势

作为少数拥有完整IDM(垂直整合制造)能力的半导体企业,FRAISSE强调意法半导体的独特价值:


「我们在法国克罗尔的12寸晶圆厂同时生产矽光子和BiCMOS元件,不仅确保供应链稳定,更能提供从晶片设计、制造到电光测试的一站式服务。这种整合能力对追求CMOS级量产标准的客户极具吸引力。」


FRAISSE说:「我们正站在技术革命的转折点。AI不仅改变运算架构,更推动整个半导体产业的创新步伐。透过PIC100矽光子平台和B55X BiCMOS技术,意法半导体已做好准备,将与合作夥伴共同定义下一代资料中心与AI运算的标准。」



图七 :  矽光子关键技术
图七 : 矽光子关键技术

意法半导体推动矽光子技术

Vincent FRAISSE特别强调,可??拔收发模组在高效能运算(HPC)与云端运算中的关键角色,以及矽光子技术在其中的优势。


可??拔收发模组的核心功能是透过调变器将电子讯号转换为光讯号,并透过光电二极体将光讯号转换回电子讯号。其主要组件包括光源(雷射)、光学引擎(由光子 IC(PIC)与电子 IC(EIC)组成),以及负责整体运作的微控制器。在某些高阶应用中,模组还配备数位讯号处理器(DSP),用於均衡电子讯号输出至 xPU。


随着市场对更高传输量的需求增加,矽光子技术相较於现有的 EML 和 VCSEL 技术,展现出更卓越的效能。矽光子技术不仅支援更长的传输距离,也能提升运作速度,并且透过更线性的 EIC 和 BiCMOS 技术,有效降低功耗。


意法半导体早在十年前便投入矽光子技术研发,但当时市场尚未成熟,因此延後商业化时程。如今,随着市场需求的成熟,公司正式推出全新技术平台 PIC 100,并强调这是目前唯一可支援每通道最高 200Gb 传输速率的纯矽 12 寸技术。



图八 :   新一代光学连结技术
图八 : 新一代光学连结技术

PIC 100 受惠於意法半导体位於法国Crolles的 12 寸晶圆厂,采用先进微影技术,达到与数位 CMOS 制程相当的良率。透过创新的材料堆叠技术,PIC 100 使光纤可直接连接至光子 IC 的边缘,而非传统的垂直耦合方式,进一步降低系统损耗,这对光学传输的开发者而言是一大突破。


与现有的 VCSEL 和 EML 技术相比,矽光子技术具备多项关键优势,包括:


  • · 更高的整合性:适用於可??拔收发模组与 CPO(共封装光学)模组。


  • · 传输距离更具弹性:可支援长距离与短距离应用。


  • · 更低的系统损耗:降低光学传输过程中的讯号衰减。


  • · 更高的能源效率:透过移除 DSP,降低整体功耗。


  • 此外,矽光子技术已应用於线性可??拔光学模组(LPO)与线性接收光学模组(LRO),透过更稳定、更线性且损耗更低的讯号传输,进一步减少功耗并支援更长的传输距离。




图九 :  结合矽光子与BiCMOS技术
图九 : 结合矽光子与BiCMOS技术

Vincent FRAISSE认为,转向矽光子技术已是不可逆的趋势,全球超大规模运算业者亦认同此观点。公司已与 AWS 签署合作协议,AWS 深度叁与了 PIC 100 的开发,并计画在技术量产後,将其部署於基础建设中。


此外,意法半导体也与全球领先的光学解决方案供应商合作,这些市场领导者专注於可??拔光学收发模组,并计画在下一代 1.6T 收发模组中采用 PIC 100,以应用於资料中心互连(DCI)与 AI 丛集。


PIC 100 预计於 2025 年下半年进入量产,将为市场带来更精巧的设计、更远的传输距离,以及业界尚未达到的纯矽整合技术效能,持续引领未来资料中心与 AI 运算发展。



图十 :   BiCMOS加速市场采用动能
图十 : BiCMOS加速市场采用动能

迎接资料中心与 AI 丛集新时代

随着 AI 计算与资料中心对高速传输需求的激增,意法半导体正透过其创新的矽光子技术与 BiCMOS 技术,为未来的云端光学互连提供关键解决方案。意法半导体射频与光通讯事业群总经理 Vincent FRAISSE 表示,这些技术将在可??拔收发模组(Pluggable Optical Transceivers)、共封装光学(CPO, Co-Packaged Optics)、以及最新的晶片对晶片(Chip-2-Chip)GPU 互连领域发挥关键作用。


可??拔收发模组的核心功能在於透过调变器将电子讯号转换为光讯号,并透过光电二极体将光讯号转换回电子讯号。其组成包括雷射光源、光学引擎(由光子 IC(PIC)与电子 IC(EIC)组成)、微控制器,以及在某些情况下配备数位讯号处理器(DSP),用於均衡输出至 xPU 的电子讯号。



图十一 :   IDM模式提供强大竞争优势
图十一 : IDM模式提供强大竞争优势

矽光子技术相较於现有的 EML 和 VCSEL 技术,提供更卓越的效能,支援更长的传输距离与更高的运作速度,并且可降低功耗。特别是在 LPO(线性可??拔光学模组)与 LRO(线性接收光学模组)应用中,透过更线性的 EIC 和 BiCMOS 技术,可移除 DSP 进一步降低功耗,同时提升讯号稳定性。


随着连接密度持续提升并降低功耗成为业界关注焦点,机架後端的铜线连接正在逐步被光学连接取代。CPO(共封装光学)或 Optical IO(光学 I/O)技术应运而生,其概念是将光纤直接连接至 GPU,使光学传输更加紧密整合。


此类光学 I/O 需要高密度调变器、客制化 EIC 解决方案,以及矽穿孔(TSV)与 3D 组装技术,以降低损耗并提升密度。意法半导体将透过其 PIC100 设计平台,提供完整的技术工具组来支援 Optical IO 的开发与应用。



图十二 :   ST技术重点摘要
图十二 : ST技术重点摘要

在电子 IC(EIC)领域,意法半导体拥有领先的 BiCMOS 技术,其最新推出的 B55X 技术凭藉最高的震荡频率(Fmax)、最隹转换频率(FT)与低杂讯特性,成为单通道 200G 及下一代 400G 技术的理想选择。


B55X 尤其适用於 LPO 模组,能在无 DSP 的架构下大幅降低功耗与延迟,对於超大规模运算业者而言极具吸引力。目前已有约 20 家大型客户正在采用 BiCMOS 技术设计 EIC,并与多家合作夥伴携手推动技术导入。


意法半导体正式发表全新矽光子技术平台PIC100,这是目前唯一支援每通道 200Gb 传输速率的纯矽 12 寸技术。其创新的材料堆叠设计,让光纤可直接连接至光子 IC 的边缘,降低系统损耗。


PIC100 将受惠於法国克罗尔(Crolles)的 12 寸晶圆厂,并采用先进微影技术,使良率可达数位 CMOS 制程水准。该技术将於 2025 年下半年进入量产,并已获得 AWS 及多家光学收发模组领导厂商导入设计,预计应用於 1.6T 收发模组、资料中心互连(DCI)与 AI 丛集。


结语

AI 的崛起推动了更高速、更大频宽与更高能源效率的技术需求,意法半导体以矽光子技术 PIC100 与 BiCMOS B55X 技术回应市场趋势,并在光学传输领域建立强大的市场影响力。透过 12 寸矽技术平台与完整的供应链服务,意法半导体正引领未来云端光学互连技术的发展。


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