制程尺寸的缩短会带来诸多影响，其中之一即传统的OPC将无法在合理的响应时间内实现高图像真实性。我们对此进行研究并提出了一个解决方案，将其命名为Matrix OPC。

首先，我们来探究应用于高阶制程时，传统的光学近似效应修正（OPC）存在的问题。 在OPC中，图像每一个边长会被切割成适当的区段，每个区段的边长位置误差（EPE）按照精心挑选或计算的回馈，进行反复调整。传统的OPC算法假设光罩上单个多边形区段和其芯片上相关的EPE间是为一对一的反应关系，这意味着移动光罩上的一个区段仅影响相关的EPE。反而言之，在OPC迭代中，光罩上区段的渐进移位完全可通过其关联EPE估算出来，从28nm制程开始，这种手法过度简化问题，而考虑单一个区段EPE已经无法有效处理区段对区段之间的交互影响。
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