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解剖CMOS与CCD之发展趋势
 

【作者: 高士】2004年04月05日 星期一

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有关CCD与CMOS的应用争论是80年代CMOS取像组件问世后正式展开,90年代CCD成为数字相机与数字摄影机的取像组件主流,尤其是在数字相机领域,CCD更具有压倒性的占有率。CMOS取像组件为了避免与CCD正面对决,因此在移动电话等领域另辟战场并获得大胜,不过却也招致CCD的觊觎,并且迅速与CMOS形成竞争局面,2003年开始取像组件的画素数从30万一口气提高四倍,甚至超过130万画素以上,使得CCD取像组件更因它的影像质量优势蚕食CMOS既有的生存空间,如(图一)所示。


相关业者普遍认为内附取像镜头的移动电话(以下简称为相机手机)的画素数量期内不易再向上攀升,假设画素数不再增加,而且2004年~2005年CMOS取像组件也跨越100~130万画素技术门坎,如此一来CMOS就可充分发挥小型低耗电量等优势,进而再度夺回在相机手机的占有率。



《图一 各种取像组件的技术动向》
《图一 各种取像组件的技术动向》

应用趋势

最近几年相关业者对CCD与CMOS取像组件的认知发生重大改变,具体内容分别如下:


  • (1)画质;


  • (2)相机模块的耗电量;


  • (3)相机模块的制造成本;


  • (4)相机模块的小型化;


  • (5)高速被照物的影像歪斜。



如(图二)所示,为以往与最近对CCD与CMOS两取像组件的认知比较。


  • ● 有关画质:以往认为CCD具备压倒性的画质优势,相对的CMOS的影像质量较差,不过最近CMOS采用低噪讯制程,使得CMOS的影像质量获得大幅提升,某些下游应用厂商甚至认为CMOS的影像质量比CCD更好。


  • ● 相机模块的耗电量,则涉及周边的电源电路、驱动器、信号处理电路等综合性比较,而不是单纯的取像组件耗电量问题。以往CMOS取像组件的耗电量具有绝对性优势,不过新型的CCD驱动电压大幅下降,其中某些11万画素CMOS的低耗电量特性已经可以媲美CMOS。


  • ● 相机模块的制作成本:主要取决于半导体制程。CCD若与CMOS比较,由于CMOS比较容易与周边电路整合成单芯片,因此以往普遍认为CMOS具备低成本化的优点,然而随着CMOS取像组件高画质化的发展,CMOS需使用与CCD相同的特殊制程,也因此使得pixel部位的画质极易受到不纯物与缺陷的影响,而且良品率仍有待克服。此外加大扩散层改变基本结构,更造成无法与周边高性能化数字电路整合,达成所谓的两全其美目标,事实上这意味CMOS已经丧失单芯片的优势。


  • ● 相机模块的小型化,则涉及上述相机模块制造成本单芯片的可行性,因为随着高画质化的发展对CMOS未必有利,而且CCD也正朝向整合周边电路,亦即所谓的单芯片化方向发展。由于CCD感测部的画素尺寸微缩化技术相当成熟,因此今后包含镜片在内的光学尺寸小型化,绝对是CCD比CMOS更容易达成,换句话说单纯小型化而言,事实上CMOS与CCD两者的差距正快速消失中。


  • ● 高速被照物的影像歪斜问题,不可否认一直是CMOS取像组件的致命性缺陷,不过随着CMOS取像组件的感度提升,影像读取速度高达15~30frame/ec,因此31万画素的CMOS已经没有影像歪斜的困扰。




《图二 对CCD与CMOS取像组件认知的比较》
《图二 对CCD与CMOS取像组件认知的比较》
《表一 对CCD与CMOS取像组件认知上的改变》
     以往的认知:2001年以前 (壁垒分明)  最近的认知:2002年以前(竞争互补)
CCD CMOS CCD CMOS
画质 ◎~○
模块耗电量 △~○
模块成本 ○~◎
模块小型化   △~○ ○~◎
影像歪斜(被照物高速移动时)          △~○  

由于CMOS与CCD两者的优缺点随着技术的进化,以往所谓的「要求高画质的高阶产品使用CCD,低耗电量低价为诉求时使用CMOS」壁垒分明的格局,正受到移动电话的发展快速瓦解,形成二分天下相互竞争的局面,该趋势可由(图三)的2002年内建取像镜头的移动电话已经成为市场主流的统计结果获得证实,一般认为2005年全球相机手机的比率可达20%,届时市场规模将超过1亿台,如(图四)所示。


《图三 2002年内建取向镜头之手机统计结果》
《图三 2002年内建取向镜头之手机统计结果》
《图四 全球相机手机的市场规模》
《图四 全球相机手机的市场规模》

早期的相机手机基于价格与耗电量优先等考虑,因此取像镜头大多使用 CMOS传感器(sensor device),随后市场才出现高画质要求,三洋电机随即在 2001年2月推出内建1/7英吋11万画素CCD取像模块的素描手机,2002年5月SHARP则推出内建1/5英吋31万画素CCD取像模块的相机手机,由于两种截然不同的取像相继被应用在相机手机,使得CMOS与CCD正式展开竞争局面,在此同时CMOS为了要与CCD一争高低,试图藉由高画质化的改善阻挡CCD的攻势,结果造成互不相让的局面。


如(图五)所示可知综观2000年~2003年相机手机的发展动向,由于取像模块由31万画素提高至百万画素已经成为业界普遍的共识,因此CMOS与CCD究竟何者会胜出,事实上取决于何者可达成100~130万画素的目标,而能否达成100~130万画素目标,则取决于何者可将画素尺寸微缩成3微米大小,如(图六)所示。尤其是素描手机用取像模块对取像组件的高度有严格限制,由于光学上的限制因此取像组件外形尺寸不可超过1/4英吋,依此换算100~130万画素取像组件的画素尺寸大约是3微米大小,为达成上述目标并非单纯采用更微细制程即可,因为画素尺寸越小受光量相对减少,为了维持影像质量必需提高单位面积的感度,亦即画素尺寸微细化技巧成为各厂商的技术指针,一般认为100~130万画素取像组件在 2003年仍然是CCD占优势。


《图五 素描手机的画素变化趋势》
《图五 素描手机的画素变化趋势》
《图六 画素大小与光学尺寸的关系》
《图六 画素大小与光学尺寸的关系》

技术动向

为了要与CCD取像组件竞争,CMOS厂商正努力改善组件特性,具体内容大多与画质有关分别是:


  • (1)固定pattern噪讯。


  • (2)random噪讯。


  • (3)暗电流。


  • (4)回路噪讯。



《表二 噪讯类型与对策》
噪讯类型 原因 对策
固定pattern噪   组件制作的特性分布不均所造成(例如晶体管的峰值电压不均等等) 使用可cancel噪声的电  
random噪讯  电子通过电阻时产生的现象(例如热噪讯、KTC噪讯等等) 改用可作完全转送的结
暗电流  微小结晶缺陷所造成(例如漏电流等等) 埋设photo diode gatering
电路噪讯   画素以外的电路所造成(例如读取电路、增幅电路等等) 利用电路设计控制  

  • ● 固定pattern噪讯:是指各画素具有固定的噪讯,该噪讯不会随着时间改变,主要原因是制作晶体管等组件时的特性分布不均所造成,因此只要采取可 cancel噪声的电路等对策即可。


  • ● random噪讯:该噪讯会随着时间改变,尤其是reset动作电子通过电阻


  • 时极易发生这种现象,解决对策是CCD采用接近完全转送的结构。


  • ● 暗电流是指组件的漏电流:主要原因是微小结晶缺陷所造成,常用的对策是在组件内设置photo diode gatering藉此排除重金属污染,其中以东芝的CMOS采用与CCD相同的photo diode gatering结构,进而获得可与CCD取像组件媲美的画质,如(图七)最具代表性。主要原因是CMOS取像组件的读取电压非常低,所以完全内崁式photo diode gatering始终不易达成,有鉴于此该公司针对晶体管与CMOS的结构进行改善,因此CMOS读取电压即使只有2.8V亦可动作,而且暗电流降至对策前的1/10以下,见(图八)。


  • ● 电路噪讯:是指读取电路、增幅电路等产生的噪讯,基本上适当的电路设计可使噪讯控制在某种范围内。




《图七 CCD与CMOS取向组件的画质比较》
《图七 CCD与CMOS取向组件的画质比较》
《图八 利用暗电流对策降低噪声的效果比较》
《图八 利用暗电流对策降低噪声的效果比较》

相较于CMOS的急起直追,CCD厂商也加快步伐进行新技术开发,其中又以三洋电机最积极。如(图九)所示该公司自从2001年2月首度推出相机手机用 11万画素CCD取像组件之后,便不断进行耗电量的改善,由图可知2001年1/7英吋11万画素CCD取像组件的耗电量是90mW,2003年2月问世的1/9英吋11万画素CCD取像组件的耗电量只有35mW,单就耗电量而言,该CCD不比CMOS的40Mw~80mW逊色。有关低耗电量的改善,三洋电机坚持采取其它厂商非常忌讳的Frame Transfer方式(以下简称为FT),由于photo diode与电荷转送部可作成一体化,因此FT可比其它方式更易获得低电压化效应,例如垂直CCD的动作电压其它公司是12~15V,三洋电机的CCD则只有一半大约是7~8V左右,此外只需中耐压制程即可,因此更容易与其它数字电路整合,以耗电量为35mW的CCD为例,该CCD就是将周边的驱动电路、电源电路、模拟前段处理电路与 DSP整合成单芯片。值得一提的是FT方式的纵向光纹,极易沿着转送路径渗入造成smear噪讯,三洋电机根据各line计算35mW的CCD的smear噪讯,藉由消除smear噪讯的影像演算处理进行补正。



《图九 相机手机用CCD低耗电化的技术动向》
《图九 相机手机用CCD低耗电化的技术动向》

(图十)是利用CMOS制程制作与CCD画素相同结构,试图藉此获得低噪讯化效果的VMIS(Threshold Voltage Modulation Image Sensor)新技术的概念图,VMIS是拥有CMOS process line的LSI厂商ENO-TECH Co开发的技术,该公司除了授权给EPSON之外,今后会再提供相关技术给日本国内两家公司。


《图十 VMIS的断面结构》
《图十 VMIS的断面结构》

(表三)与(表四)是日本各取像组件(photo sensor)厂商针对相机手机开发的产品发展动向统计表,由表可知三洋电机目前是以11万画素CCD取像组件为主要诉求。有关100~130万画素取像组件的规格与研发时程仍在研拟阶段;同时拥有CCD与CMOS两种技术的SHARP也是抱持与三洋电机相同的策略,亦即目前是以11万画素CMOS为主,未来100~130万画素取像组件则倾向采用CCD方式;2002年第三季加入相机手机用CMOS取像组件行列的SONY,则在2003年推出100~130万画素CMOS取像组件,该公司预测2004~2005年CMOS取像组件的画质若能达到CCD的水平,具备小型低耗电优点的CMOS将成为市场主流;同样拥有CCD与CMOS两种技术的松下电器虽然尚未公布量产时程,不过该公司已在2003年已建立1/4英吋100~130万画素取像组件的制作技术;三菱与松下电器一样已建立百万画素取像组件的制作技术,不过量产时程则尚未确定。


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《表三 CCD厂商今后发展计划》
项目 三洋电机 SHARP 松下电器 SONY
素描手机用取像组件的规格与商品化时程 1/7英吋,11万画素,2001/2。 1/5英吋,31万画素,2002/5。 1/6英吋,31万画素。 1/7英吋,31万画素,2003年。
1/9英吋,11万画素, 2002/5。         
1/9英吋,11万画素, 2003/2。           
百万画 素取像组件的计划 未定 1/4英吋,100万画素,2003年。 1/4英吋,130万画素,2003年。 1/3.6英吋, 130万画素, 2003年。
取像组件的今后发展方向 低耗电化 低耗电化   低耗电化
微积芯片小型化      
低噪讯化   低噪讯化  
多画素化 多画素化 高速化 多画素化

《表四 CMOS厂商今后发展计划》
项目 SHARP 东芝 SONY 松下电器
素描手机用取像组件的规格与商品化时程   1/7英吋,11万画素,2001/10。 1/4英吋,31万画素,2001/11。 1/5.5英吋,31万画素,2002年第三季。  
1/4英吋,31万画素,2001/12。 1/7英吋,11万画素,2002/8。    
1/7英吋,11万画素,2002/5。 1/4英吋,31万画素,2003/5。    
百万画素取像组件的计划 未定 1/3.3英吋,100~130万画素,2004年。 未定 1/4英吋,130万画素,2003年。
取像组件的今发展方向 降低暗电流 降低暗电流   降低噪讯
高画质化 降低纵向条纹 媲美CCD画质 微细化
      单芯片高画质

结语

由于数字相机与高频通信技术的进步,移动电话可轻易沿用数字相机的取像组件技术,建构具备摄影功能又可作实时影像传输的相机手机。在CMOS与CCD两取像组件僵持不下的同时,梦幻般的可变倍焦(zoom lens)镜头即将登场,这意味着未来数字相机与相机手机,将出现严重的市场重迭现象,何者可胜出则取决于取像组件的性能。


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