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超高亮度Micro-LED突破绿光瓶颈 开启显示技术新纪元

根据《nature》期刊,氮化??Micro-LED阵列亮度突破10x7尼特,实现高达1080×780像素的高密度微型显示器。这一突破克服了晶圆级高质量磊晶生长、侧壁钝化、高效光子提取和精巧的键合技术等长期挑战,为AR/VR设备、可穿戴设备和下一代消费电子产品带来巨大优势。


图一 : 采晶圆级制造的GaN-on-Si Micro-LED显示器,解析达1080?×?780 像素,且具高亮度、高密度 (3400 ppi)性能(source:Nature)
图一 : 采晶圆级制造的GaN-on-Si Micro-LED显示器,解析达1080?×?780 像素,且具高亮度、高密度 (3400 ppi)性能(source:Nature)

这篇由 Vineeth K. Bandari 和Oliver G. Schmidt撰写的论中文指出,绿色Micro-LED的开发一直面临挑战,特别是当像素尺寸缩小到10μm以下时,实现高亮度和效率变得更加困难。这也是LED领域广泛存在的「绿色缺囗」现象的一部分,即绿色LED的性能落後於蓝光和红光LED。


近期,研究人员利用矽基板上晶圆级均匀氮化??磊晶层,开发出超高亮度绿色Micro-LED,实现高达3400ppi的像素密度和超过10?尼特(cd/m2)的亮度,取得了显着突破。
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