账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES / 文章 /
奈米玻璃与光子结晶技术探索
 

【作者: 高弘毅】2002年01月05日 星期六

浏览人次:【6217】

所谓奈米玻璃(nano glass)并不是指微小玻璃,而是利用奈米规模(nano scale)的技术改变物性,并赋与新机能的玻璃而言。自古以来玻璃便常被用在各种容器及工艺品;信息通信、建筑、医疗器材等制品大多是无机非结晶材料为主,目前则要求更轻、更耐热玻的玻璃特质,因而驱使新世代玻璃应用与奈米玻璃等先端材料的研究正式全面展开。


奈米技术控制结晶的size与形状

由于最近发现量子size效果具有崭新的光电特性,因此国外已开始着手进行基础要素技术的研究。具体而言它是在均质溶融‧固化玻璃中析出微结晶实现负膨涨率之技术,或是利用奈米技术控制微结晶大小及形状,进而开发热膨涨率等热物理及新型光学机构技术。


此外已有20年以上历史的VAD法(付气相轴法)所制作的光纤,微视而言它的组织结构是奈米(十亿分之一米,1nm)级玻璃微粒子的凝聚体,然而有关光纤结构的奈米研究、控制或是利用量子size效果产生高亮度发光现象之机能性探索则有待努力。


奈米控制技术的研发目标

主要研发目标是锁定在构造自由度(残余entropie)比结晶更大的无机非晶质材料的特性,藉由奈米控制技术可获得突破性的性能,换言之它的标的物如(图一)所示,为原子、分子规模之构造、超威粒子构造、高次构造等三大项目,并开发其相关控制技术。


原子、分子规模(其大小约为1nm)之构造:

利用组成控制或构造缺陷的导入控制局部配位子场进而开发出新的光电性能。


超威粒子(其大小约为1~数10nm)构造:

利用气相法、溶液法等材料制程或超短脉冲(pulse)雷射光、超高压、施加高电压等,同时更藉由外部赋与能量,搭配微粒子、分相、结晶细孔周期配列控制技术的开发,创造出超高亮度发光体、环境贺尔蒙分离组件、光微积体组件等相关基础材料。


高次构造:

利用有机、无机混合(hybrid)、异方性结晶析出和它的界面状态控制,开发高次规模之异质(hetero)构造或周期规则构造成形技术,制作可运用于太阳电池、运输机材、OA设备等领域之超轻量、高强度基板。


《图一 奈米玻璃计划三大目标》
《图一 奈米玻璃计划三大目标》

以奈米玻璃技术制作多功能三维光学电路

如众所周知,三维光学电路的功能凌驾传统平面电子电路,为实现此目的必需开发相关的材料技术。首先根据奈米size异质项的量子效率赋与电子、磁气、光学之特异机能(统称奈米机能),依此确认光学组件动作原理。换言之它是利用奈米玻璃本身具备的多样机能制作三维光学电路,最后在玻璃内制作光学电路,并将各种光学组件微缩完成三维一体之超小型奈米玻璃光学微积电路。


Tera位超高速通信

80年代初光通信是以每秒百万(Mb)位速度传输,90年代末10亿位传输开始商业化。随着因特网需求成长,传递信息量以当初2倍速度成长,预估15年后同一光纤可作10 Tera位的传输亦将进入商业化。然而若以目前的技术作延伸,同等比例时的传输成本,其消费能源对成本将急遽上升。此现象亦适用于超高容量储存设备与高精细显示设备。造成这现象主要原因是光通信、光储存、显示设备等光信息技术相关制品、组件所使用的传统材料必需提高其纯度并改善制程才能符合上述需求,而具革命性的新型材料与制程的开发却大幅落后时程需求。


因此有关内建光导波路、光开辟、光传输、光增幅、波长转换器、分合波器、波长分波器、波长选择filter之三维光学组件的研发愈形重要。利用原子、分子规模至数十奈米以上等级之奈米构造控制的玻璃,可按照量子效果达成电子磁气、光学、化学等特异奈米机能。换言之奈米机能乃是三维光学组件不可或缺的基础技术。


光导波器

未来能实现每一单位光纤可作10T位/秒/1万公里(无中继每秒10T位传递1万公里)的超高速传输能力(目前为1T位/秒/1千公里)的组件,祇有光机微积电路才能达成。具体而言它是利用超短脉冲(pulse)把光导波路烧入玻璃内,或利用雷射光把分合波用filter、偶合器(coupler) 烧入玻璃内。换言之未来必需配套开发超高感度玻璃与高精度雷射光描绘技术。


宽幅、高效率之光增幅组件

为实现每秒10 T位超高速传输与1000channel多重(重迭)能力,必须将目前的波长范围以低耗电技术利用光增幅器提高10倍以上,才能符合实际需求,其中最具潜力的是稀土类离子发光,或利用玻璃结构的栏栅振动产生Raman散乱之增幅效应技术。


效率上稀土类离子发光之材质会有带宽过窄之缺点,后者虽然具有一定程度的自由调整空间但是效率极低,为弥补这些缺点透过新型增幅用玻璃的开发,可实现光纤或光导波chip宽幅‧高效率增幅的目标。


高速光开关、光隔离器、光导波器

光通信用光开关通常是将heater设置在光纤上,利用热光效应(因温度上升,折射率亦上升)达到开/关目的,或将非线形光学效果较大之结晶材料坎入光导波器途中作成光开关。前者应答速度非常慢,后者有成本极限之问题。而光隔离器或光导波器则使用各种结晶材料,各组件微体积化或低成本化时却都遭遇到一定极限之困扰。


使用结晶材料之组件特征为构造上是异方性(光学、磁气异方性),因此可利用玻璃的奈米构造控制技术有机会发现类似奈米玻璃特性。换言之以人为力量将光学、磁气异方性的周期提高,之后检讨组成与操作技巧再确认磁气与电气之光学效果,同时建立将其机能作三维微积化技术是未来发展的方向。


大容量光储存用材料(超解像膜)

将薄膜玻璃中的粒径极为规则的奈米大小结晶粒子析出、分散,之后在此奈米玻璃薄膜照射雷射光,此时薄膜的折射率会产生变化,当激光束外径减少时便发生可逆性的超高折射率变化。目前一般液晶等高折射率变化材料顶多祇有1%变化,但若用雷射光照射折射率变化量超过20%的材料可作为奈米玻璃材料来使用。此特殊现象适合大容量光储存用材料之超解像膜,因为折射率变化变大时光储存读取面积可大幅减少,此外玻璃基板表层形成奈米大小的异质层,基板更容易达成高强度化、超平坦化,进而促成高速旋转高速读取之大容量光储存盘片的早日实现。


超高亮度发光玻璃

虽然市面上已经有在溶液中发光效率约为10%的超威粒子,不过其寿命仅有数小时且非常不稳定更无法提高其浓度。若是可稳定保持玻璃中的高浓度,显示器或夜间照明便可获得发光玻璃。


为了要提高玻璃中发光超威粒子的浓度,例如利用逆分子团法(micelle)制作粒径数10nm之玻璃微粒子,并在其中添加平均一个半导体微粒子,之后将此微粒子均质分散至玻璃中,此外诸如此类藉由超威粒子规则配置提高发光效率(目标为目前的100倍)手法仍有待进一步开发。


光开辟用非线形玻璃

含有超威粒子材料具有显著量子效果,例如μ(百万分之一)m大小时几乎无法显现之「量子封闭效果」,或奈米粒子的存在首度引发红色着色之「表面plasmon效果」,以及近场所引起的「界面效果」均为典型代表。(图二)为石英(SiO2)玻璃中析出奈米大小Cu(铜)的TEM(穿透式电子显微镜)照片。(图三)为Au(金)/SiO2(石英玻璃中析出奈米大小金)、Ag(银)/SiO2(石英玻璃中析出奈米大小银)、Cu(铜)/SiO2(石英玻璃中析出奈米大小铜)三种薄膜堆栈时薄膜的吸收频谱(spectrum)。


图三中基于Au、Ag、Cu粒子特有的表面plasmon吸收,其吸收频率分别是525 nm、406 nm、582nm。这些吸收一旦由周围赋与光的电场,其吸亮度会显示极大变化之非线性特质,换言之可将光作为开辟使用,亦即所谓的超高速光学开辟之应用。


奈米规模之超威粒子可保有透旋光性,同时亦可溶入玻璃材料中,此外更可藉由外界电磁场进行配置操作等超威细控制,对于开发新机能具有非常大的贡献,尤其是创造下一世代的光子(photonics)材料更形宝贵。


《图三 三种薄膜重迭后之复合膜吸收频谱分布》
《图三 三种薄膜重迭后之复合膜吸收频谱分布》

机能性奈米玻璃

玻璃原子构造并非呈特定方式排列之非结晶体(amorphous),若以原子level观之,相互结合的原子乃是不断的晃动,而且它还具有原本溶入玻璃结晶却未结晶化的特性。溶有机能性成分的玻璃,若用激光束以飞秒(femto)极短时间照射,玻璃内部的构造会产生剧烈变化。要使玻璃内部产生剧烈变化重点并不是激光束大小,而是千兆分之一秒极为短的照射时间,如果照射时间比飞秒更长,例如picot秒或奈米秒(nano),雷射能量会变成热能将玻璃溶化,而且不会出现上述特性。


主要原因是时间上飞秒比原子晃动的周期更短,因此可切断玻璃的结构,这种现象称为分子mes。其中有一项相当特殊性能是被激光束照射过的玻璃折射率会改变。换言之激光束照射的部位折射率比周围更高,它与光纤构造类似可在玻璃内部被激光束照射的部位简单描绘出三维的光路,参考(图四)。利用此技术可在1mm四方的玻璃chip内制作光分波器或光导波器、filter等等。此积体光学回路它的大小、价格与速度祇有传统复数各别组件所构成的回路的千分之一。


《图四 飞秒单位之激光束于玻璃内部绘制的光回路》
《图四 飞秒单位之激光束于玻璃内部绘制的光回路》

另一项相当特殊性能是电子结构的变化,当光线通过玻璃时从横方向会令激光束以飞秒速度照射,此时光线会以极高速大折射。利用此技术可使光线变成on/off之光切换开关;电子式on/off切换开关一般都需借助电容器储存电子来完成,此外处理速度的极限大约是每秒10G位,而光学开关的速度是电子式的一万倍,且光电转换之际损耗几乎是零因此消耗电力非常少。


《图五 奈米玻璃技术的应用例》
《图五 奈米玻璃技术的应用例》

此外折射率变化的特性亦可应用在光储存领域,当激光束照射玻璃时若是以等距时间间隔(飞秒单位)及三维方式扫描,如此一来每一照射点会变成记忆储存组件,每一照射点的大小约为1μm时1cm^2记录容量是DVD的2500倍。如果把上述的光学开关、光储存、光纤组合于一片玻璃chip时便可作成光学计算机,而且耗电量低到干电池便可驱动的程度。


除此之外还有其它现象,其中之一是玻璃分离膜filter特性。如上所述用激光束以飞秒时间照射玻璃在其内部开设奈米级孔穴时,会因分子大小使物质分离,进而可从混合气体中分离有毒气体达到环保应用效益。此外激光束以飞秒时间照射玻璃时会有残光现象,未来可应用于立体电视等领域的显示材料。


如上所述因为将机能性成份混入玻璃内而产生如此多样特性,同时藉由奈米规模的操作技术发现诸多的光学、机构机能,对于今后奈米玻璃技术的发展势必产生更大影响。(图五)


光子结晶

所谓的光子结晶是指某些波长的光线完全无法通过,但祇需微许改变波长光线的折射率会产生遽大变化之人工材料(非自然物质)。由于光子结晶具有如此特殊光学特性因此可应用于DVD或光通信等领域的组件。


为制作光子结晶必需将类似半导体等折射率差异较大的两种透明的媒质,用光的一半波长左右的周期作有规则排列,它的相互间隔为次微米规模(sub micron order),若单以尺寸观之目前的半导体技术即可胜任,不过更进一步检讨却发现由于复杂且深孔结构势必使用奈米(1nm:1mm的百万分之一)技术。此外光子结晶随着类似结晶的周期结构所形成的次元数差异,可分为「一维光子结晶」、「二维光子结晶」、「三维光子结晶」三种类型。如(图六)、(图七)。


一维光子结晶为类似多层膜之单纯周期结构。构成多层膜的材料彼此之间的折射率的差异变大时会出现一种称为阻断频域「stop band」之宽反射频域,此种以往所未曾有的物质包括光子结晶在内统称为一维光子结晶。典型的二维光子结晶是在基板上形成深孔或柱子。


《图七 各类光子之微积结构》
《图七 各类光子之微积结构》

三维光子结晶是立体玛赛克结构(mosaic),多边形角状结晶堆栈或是呈球状堆栈。虽然三维光子结晶无法全方位传递光线,但它是指于一维与二维光子结晶无法传递的方向而言。


两种媒质的折射率差异加大同时又能满足周期结构的条件时,特定波长的光线便完全无法传递,换言之外部射入光子结晶的光线会被反射出去无法入侵,即使在结晶内部设置光源亦无法产生同等波长的光线。此波长范围称为「PGB: (photomics band gap)光子频域间隙」。


光子结晶类似固体结晶且具有人工化周期结构,在固体结晶原子呈周期性排列,其中电子波对应该周期性的同时作特殊舞动,以半导体而言会出现如此特性乃是因为光子结晶具有特殊机能,同理该周期结构中若不是电子波而是光波会作特殊舞动,此种新概念对电子而言乃是非常古老的理所当然,然而却也是新的概念。换言之电子领域中用来控制半导体的频域(band)特性适用于光学领域,进而可视为一种新材料。(图八)


《图八 各类光子微小结构》
《图八 各类光子微小结构》

到目前为止半导体激光束可全方位发射光线,因此效率上有其极限,不过若改用光子结晶便可任意控制光线的传递方向,并以低于传统的操作电流作100%高效率的动作。例如在半导体材料上制作直径比光波长更小的圆柱,其直径为0.2μm(1μm是千分之一mm)同时并使圆柱规则排列,由于圆柱的直径祇有0.2μm(1μm是千分之一mm)比内部发光的光线波长更小,该光线无法自由转动,被限制在光线行进方向内。


所使用的半导体材料为铟‧磷,由于铟‧磷材质的圆柱与空气的折射率差,因此产生光子频域间隙(photomics band gap)。虽然铟‧磷比钾‧氟更不易作超威细加工,然而铟‧磷材料却没有安全上的顾忌。除此之外还可利用蚀刻技术(etching)在铟‧磷材料上制作孔径0.5μm,周期间隔6μm的圆孔,其中部份未开孔处则制作直线至60度弯曲状进而形成光导波器。


若改变该结晶的波长,使用波长1.49μm的半导体雷射照射,则光束能完全穿透。即使通通信通常使用波长1.55μm的激光束亦能延着60度弯曲状的导波行径传递光信号,由于二维光子结晶的上下会有漏光现象,因此可以确定光子结晶具有光子频域间隙(photomics band gap)效应,即使是三维光导波器光束也可在极窄空间内作180度U-turn,换句话说它可应用于次世代光学微积电路(光IC)。传统光学微积电路的大小大约是cm等级,因此外形尺寸为100μm正方左右,如果改用光子结晶制作光学微积电路(简称光子IC)外形大小祇有传统光学微积电路的万分之一。


此外光子结晶还可制成直径3μm的半导体雷射,这种超威型雷射称为微型盘片雷射(micro disk laser),发光部呈圆盘状激光束从圆盘周围射出。材质是用铟‧磷挟持钾‧铟‧氟‧磷,基本上它是一维光子结晶的另一种应用。由于光束相当细弱因此不适用于光通信或光盘领域,不过若与半导体微积电路整合可作为光电信号转换组件,操作电流仅需0.9Ma便可射出激光束,因此对于实现低耗电微积电路具有很大帮助。之后直径2μm,波长1.55μm,耗电量0.2mA的半导体雷射亦成功开发完成。依此结合上述的光导波器与使用光子结晶之组件,理论上可制作前所未有的超高指令周期的微型光学集成电路。除光通光源之外外尚可应用于光储存、背光板高反射膜等显示器领域。(工研院光电所)


相关文章
升级至数字式滤波器
200GHz高密度分波多工器干涉滤镜之技术与应用
4.7 GB DVD-RAM/RW 光学读写头最新发展
全球资讯用光碟机产业现况与趋势
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关新闻
» 工研院、友达强强联手结伴 聚焦4大领域产业抢商机
» DELO 启用峰值输出功率为 1.7兆瓦的太阳能系统
» 宇瞻导入胆固醇液晶全彩电子纸看板应用 开拓绿色显示市场
» 林业保育署屏东辖区以太阳能建置打造绿能环境
» 台湾光电厂商联袂叁加美西光电展 展现光电等先进技术与服务


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK84T7ZD9ZQSTACUK2
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw