根据日经BP社报导，日本富士通研究所（Fujitsu Research）成功开发出能把硬盘盘片的润滑剂厚度减少到原来70％以下的关键技术。这项技术可提高硬盘储存或读取数据的可靠度，也能把硬盘盘片的记录密度提高到1Tbit/inch2。Fujitsu Research表示，未来希望在2010年之后可把此项实验技术推展到市场实用的阶段。

目前硬盘磁头与盘片之间的距离约为10奈米，其中润滑剂便占了2奈米。倘若为了提高记录密度，磁头便需要进一步地能够接近盘片，因此假如能缩小润滑剂的厚度，便能有助于硬盘读取数据的质量。

虽然相关研发技术人员可将小分子量材料的润滑剂做得更薄，但润滑剂容易从盘片的表面蒸发掉，从而导致降低读取数据的可靠度，因此储存设计业界需要能够防止蒸发、厚度又能做到更薄的制造材料。

因而Fujitsu Research开发出可藉由结合小分子量材料以减小厚度的「吸附基」关键技术。吸附基可结合多个小分子量分子，并藉由加大总分子量达到防止蒸发的效果。这项技术内容将在5月15日于日本东京举行的「2006年春季摩擦学会议」上发表。