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應用材料攜鎧俠共同推進新一代記憶體技術發展

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AI 創新藍圖的核心是記憶體,在提升記憶體密度之際要兼顧成本與技術複雜度,必須仰賴材料、設備與製程技術的持續突破。半導體產業材料工程解決方案領導者應用材料公司宣布,全球快閃記憶體與固態硬碟(SSD)供應商鎧俠株式會社(KIOXIA)將加入應材位於矽谷的設備與製程創新暨商業化(Equipment and Process Innovation and Commercialization, EPIC)中心,共同推進新一代記憶體技術發展。

雙方將於EPIC 中心合作開發先進記憶體單元與結構、多晶片堆疊架構,以及全新的材料工程技術,以提升 AI 時代所需的記憶體密度與效能。

為了因應新一代記憶體創新所面臨的關鍵挑戰,應材與鎧俠將共同推動研發計畫,重點領域在於先進記憶體單元與結構開發、新一代記憶體多晶片堆疊技術、堆疊式記憶體先進封裝技術,以及材料工程創新可實現新一代記憶體結構,同時支援規模化製造的可行性。

應材位於矽谷的全新設備與製程創新暨商業化(EPIC)中心將於今年投入營運。

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