奇梦达公司和南亚科技公司宣布已成功获得75奈米DRAM沟槽式(Trench)技术之验证,最小之制程尺寸为70奈米,第一个75奈米之产品将为512Mb DDR2记忆体晶片。此项新的技术平台和产品是双方共同在德国德勒斯登(Dresden)和慕尼黑(Munich)的奇梦达开发中心所开发的。目前已经在奇梦达的德勒斯登12寸厂生产线开始此项新一代DRAM技术之试产。
负责奇梦达的市场和运作,也是管理委员会的委员之一的赛佛(Thomas Seifert)表示:「在取得75奈米DRAM沟槽式技术能力并推出第一项相关产品後,在技术布局上,我们已达到一个重要的里程碑。此项75奈米技术平台能够满足即将出现的各种高速介面所需之效能需求,例如在DDR3或绘图产品方面的应用。」
采用75奈米技术的合格产品512Mb DDR2能够满足JEDEC定义的最高DDR2速度所需之效能需求,使用於高阶伺服器和各种运算应用中,并展现出公司在75奈米之技术能力,可应用在未来的高速DRAM产品上。75奈米技术的推出,不仅对下一代之效能需求非常重要,亦可进一步改善奇梦达和南亚之成本架构。和之前的90奈米技术相比较,75奈米之制程架构亦可进一步缩小晶片尺寸,因此,每一片晶圆将会多增加40%之产出。
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