当台湾的IC设计产业逐渐在国际上大放光芒之际，如何提高台湾所设计出来IC产品之附加价值，已成为国内产官学研共同关注的议题。由于专利的获得需具备有产业利用性（Industrial Applicability）、新颖性（Novelty）与进步性（Inventiveness）三要件，于是藉由专利的角度观察，将可略窥台湾IC设计业研发的方向与成果。此外，相较于国际大厂，台湾IC设计业者取得的美国专利件数仍嫌不足，主要原因在于台湾以产品研发为导向，在创新技术研发上着墨不多，且业者仍以快速追随者自限。
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