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日亚将对亿光专利在中国复审决定提出行政诉讼
 

【作者: 】2018年10月18日 星期四

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针对亿光电子在日前新闻稿指出,中国国家知识产权局专利复审委员会决定维持亿光之中国专利「具覆晶结构的发光二极管装置」(CN 101400197 B)的有效性,日亚化学表示,将对该决定提起行政诉讼,以捍卫权利。


上述亿光之中国专利CN 101400197 B的台湾对应案,即I353069号「具覆晶结构之发光二极体装置」发明专利,已在2017年1月24日经台湾经济部智慧财产局认定不具进步性,审定举发成立、撤销专利权在案。嗣後,经济部亦於2017年10月2日驳回亿光之诉愿,维持专利无效之审定。


尽管亿光曾於2017年12月5日向台湾智慧财产法院提起行政诉讼,但随後於今年(2018年)8月28日自行撤回起诉,故此台湾对应专利业已撤销确定。准此,日亚相信亿光的中国专利CN 101400197 B亦应无效。
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